特許

J-GLOBAL ID：201003021326347713

二酸化炭素隔離のためのシステム、装置、及び方法

発明者： ハンウィック リチャード ジェイ
出願人/特許権者： ハンウィック リチャード ジェイ
代理人 (2件)： 吉田 研二 ,  石田 純
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-550646
公開番号（公開出願番号）：特表2010-519027
出願日： 2008年02月20日
公開日（公表日）： 2010年06月03日
要約：

次の工程を含む二酸化炭素隔離プロセスである。第1段階において、金属ケイ酸塩岩石のスラリーをアンモニアと混合して、アンモニア/水/金属ケイ酸塩スラリーを生成する。第2段階において、このプロセスは、二酸化炭素を含むガス流を、第1段階からの溶液を用いてスクラビングすることにより、二酸化炭素を反応性スラリー中に吸収させる工程を含む。第3段階において、二酸化炭素と金属ケイ酸塩との反応を促進して金属炭酸塩を生成するよう制御されている反応器に、第2段階からの反応性スラリーを通す。

請求項（抜粋）：

二酸化炭素隔離プロセスであって、 (i)第1段階において、金属ケイ酸塩岩石のスラリーをアンモニアと混合して、アンモニア/水/金属ケイ酸塩スラリーを生成する工程と、 (ii)第2段階において、二酸化炭素を含むガス流を、(i)からの溶液を用いてスクラビングすることにより、二酸化炭素を反応性スラリー中に吸収させる工程と、 (iii)第3段階において、二酸化炭素と金属ケイ酸塩との反応を促進して金属炭酸塩を生成するよう制御されている反応器に、(ii)からの前記反応性スラリーを通す工程と を含むことを特徴とする二酸化炭素隔離プロセス。

IPC (4件)：

B01D 53/62 ,  C01F 5/24 ,  C01B 31/24 ,  B01D 53/14

FI (4件)：

B01D53/34 135Z ,  C01F5/24 ,  C01B31/24 ,  B01D53/14 C

Fターム (32件)：

4D002AA09 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002CA01 ,  4D002DA05 ,  4D002DA06 ,  4D002DA07 ,  4D002DA35 ,  4D002DA47 ,  4D002FA10 ,  4D002HA10 ,  4D020AA03 ,  4D020BA01 ,  4D020BA02 ,  4D020BA11 ,  4D020BA30 ,  4D020BB05 ,  4D020BC04 ,  4D020CB27 ,  4D020CC06 ,  4D020CC09 ,  4D020CC10 ,  4D020CC21 ,  4G076AA16 ,  4G076AB01 ,  4G076AB30 ,  4G076AC04 ,  4G076BA11 ,  4G076BA34 ,  4G076BC06 ,  4G076BH01 ,  4G076DA30

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 炭酸ガスの固定化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-390304   出願人：財団法人地球環境産業技術研究機構