特許
J-GLOBAL ID：201003021575426720
応力発光解析装置、応力発光解析方法、応力発光解析プログラムおよび記録媒体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-038306
公開番号（公開出願番号）：特開2010-190865
出願日： 2009年02月20日
公開日（公表日）： 2010年09月02日
要約：
【課題】応力発光体の発光現象に基づいて、当該応力発光のひずみパターンを精度よく推定することができる応力発光解析装置を提供する。【解決手段】本発明に係る応力発光解析装置100は、応力発光体の発光パターンを特定するパラメータ、および、応力発光体を賦活状態に遷移させる賦活光の照射パターンを特定するパラメータおよび賦活光の照射終了時刻から応力発光の検知時刻までの経過時間を入力情報とし、応力発光体のひずみパターンを出力情報する、学習により予め最適化されたニューラルネットワークを用いた算出部140を備えている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
応力発光体のひずみパターンを解析する応力発光解析装置であって、
応力発光体の発光パターン、および、当該応力発光体を賦活状態に遷移させる賦活光の照射パターンに基づいて、上記応力発光体のひずみパターンを算出する算出手段を備えていることを特徴とする応力発光解析装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (19件)：
2G043AA03
, 2G043CA05
, 2G043EA06
, 2G043FA01
, 2G043FA03
, 2G043GA07
, 2G043GB07
, 2G043GB08
, 2G043LA01
, 2G043LA03
, 2G043NA05
, 2G051AA88
, 2G051AA90
, 2G051AB02
, 2G051BA20
, 2G051CA01
, 2G051CA04
, 2G051CB10
, 2G051EA12
