特許
J-GLOBAL ID：201003021591433605
H2及びCOを別々に生成するためのガス廃棄物の処理方法並びにシステム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
森田 憲一
, 山口 健次郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-511712
公開番号（公開出願番号）：特表2010-531214
出願日： 2008年06月16日
公開日（公表日）： 2010年09月24日
要約：
本発明は、主に二酸化炭素(CO2)を含む第1のガス廃棄物(11)と、主に水蒸気(H2O)を含む第2のガス廃棄物(21)との処理方法に関し、前記方法は、高温の炭素元素を含む第1の酸化還元反応物質の層(101)を介して前記第1のガス廃棄物(11)を通過させることにより一酸化炭素(CO)を含む第1のガスフロー(12)を発生させる工程と、高温の炭素元素を含む第2の酸化還元反応物質の層(201)を介して前記第2のガス廃棄物(21)を通過させることにより主に水素(H2)を含む第2のガスフロー(22)を発生させる工程と、第1及び第2のガスフロー(12、22)の少なくとも一方を有効利用する工程とを含む。この方法は、更に、水素(H2)と一酸化炭素(CO)とからの炭化水素(HC)分子の合成を含むことができる。本発明は、また、本発明による方法を実施するシステムにも関する。
請求項（抜粋）：
主に二酸化炭素(CO2)を含む第1のガス廃棄物(11)と、主に水蒸気(H2O)を含む第2のガス廃棄物(21)との処理方法であって、
-高温の炭素元素を含む第1の酸化還元反応物質の層(101)を介して前記第1のガス廃棄物(11)を通過させることにより一酸化炭素(CO)を含む第1のガスフロー(12)を発生させる工程と、
-高温の炭素元素を含む第2の酸化還元反応物質の層(201)を介して前記第2のガス廃棄物(21)を通過させることにより主に水素(H2)を含む第2のガスフロー(22)を発生させる工程と、
-第1及び第2のガスフロー(12、22)の少なくとも一方を有効利用する工程と、を含み、
前記第2の酸化還元層(201)の少なくとも一部が、第1の層(101)の高温の炭素元素の少なくとも一部の移動又は回収により構成される、前記方法。
IPC (6件)：
B01D 53/62
, C01B 31/18
, C01B 3/04
, C01B 31/20
, C01B 3/50
, C10J 3/00
B01D53/34 135Z
, C01B31/18 A
, C01B3/04 R
, C01B31/20 A
, C01B31/20 B
, C01B3/50
, C10J3/00 E
4D002AA09
, 4D002BA06
, 4D002CA07
, 4D002DA35
, 4D002DA41
, 4D002EA05
, 4D002EA06
, 4D002FA10
, 4D002GA01
, 4D002GB11
, 4D002HA08
, 4G140FA02
, 4G140FB04
, 4G140FE01
, 4G146JA01
, 4G146JA02
, 4G146JB02
, 4G146JB04
, 4G146JB08
, 4G146JB09
, 4G146JB10
, 4G146JC01
, 4G146JC03
, 4G146JC05
, 4G146JC18
, 4G146JC34
, 4G146JC35
, 4G146JC36
, 4G146JC37
, 4G146JC39
