ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物

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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-185958
公開番号（公開出願番号）：特開2010-134417
出願日： 2009年08月10日
公開日（公表日）： 2010年06月17日
要約：

【課題】ポジ型レジスト組成物の成分として有用な新規な高分子化合物、そのモノマー、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法の提供。【解決手段】下記一般式(a0-1)で表される構成単位、および酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する高分子化合物(A1)を含有する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、下記一般式(a0-1)で表される構成単位(a0)、および酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)を有する高分子化合物(A1)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , H01L 21/027 , C08F 220/26

FI (4件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 501 , H01L21/30 502R , C08F220/26

Fターム (55件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF38P , 2H125AF70P , 2H125AH13 , 2H125AH16 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH23 , 2H125AH29 , 2H125AJ12X , 2H125AJ14X , 2H125AJ64X , 2H125AJ69X , 2H125AL03 , 2H125AL11 , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN54P , 2H125AN63P , 2H125AN64P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100BA03R , 4J100BA03S , 4J100BA03T , 4J100BA11P , 4J100BA11Q , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BA15T , 4J100BC03Q , 4J100BC03S , 4J100BC08Q , 4J100BC08R , 4J100BC08S , 4J100BC08T , 4J100BC53Q , 4J100BC53R , 4J100BC83P , 4J100CA03 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (1件)

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-282114 出願人：富士フイルム株式会社

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