特許
J-GLOBAL ID:201003024144549107

水素生成装置及び水素生成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  関根 宣夫 ,  堂垣 泰雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-093167
公開番号(公開出願番号):特開2010-241647
出願日: 2009年04月07日
公開日(公表日): 2010年10月28日
要約:
【課題】アンモニアから水素を効率的に生成する水素生成装置を提供する。【解決手段】アンモニアを酸化させるアンモニア酸化触媒(11a、11b)を有するアンモニア酸化部(10)、及びアンモニアを分解して窒素と水素とを生成させるアンモニア分解触媒(21)を有するアンモニア分解部(20)を有し、酸化部の供給ガス流れ下流側に、分解部が配置されており;且つ(i)酸化触媒が貴金属触媒及び卑金属触媒の両方を含み、且つ酸化部の上流側部分における貴金属触媒担持濃度が、酸化部の下流側部分における貴金属触媒担持濃度よりも高い、且つ/又は(ii)分解触媒が貴金属触媒及び卑金属触媒の両方を含み、且つ分解部の下流側部分における貴金属触媒担持濃度が、分解部の上流側部分における貴金属触媒担持濃度よりも高い、アンモニアから水素を生成する水素生成装置(51)とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
アンモニアを酸化させるアンモニア酸化触媒を有するアンモニア酸化部、及びアンモニアを分解して窒素と水素とを生成させるアンモニア分解触媒を有するアンモニア分解部を具備し; 前記アンモニア酸化部の供給ガス流れ下流側に、前記アンモニア分解部が配置されており;且つ 下記の(i)及び(ii)の条件のいずれか又は両方を満たす: (i)前記アンモニア酸化触媒が貴金属触媒及び卑金属触媒の両方を含み、且つ前記アンモニア酸化部の供給ガス流れ上流側部分における貴金属触媒担持濃度が、前記アンモニア酸化部の供給ガス流れ下流側部分における貴金属触媒担持濃度よりも高い、 (ii)前記アンモニア分解触媒が貴金属触媒及び卑金属触媒の両方を含み、且つ前記アンモニア分解部の供給ガス流れ下流側部分における貴金属触媒担持濃度が、前記アンモニア分解部の供給ガス流れ上流側部分における貴金属触媒担持濃度よりも高い、 アンモニアから水素を生成する水素生成装置。
IPC (6件):
C01B 3/04 ,  B01J 23/42 ,  B01J 23/745 ,  B01J 23/46 ,  B01J 23/755 ,  H01M 8/06
FI (6件):
C01B3/04 B ,  B01J23/42 M ,  B01J23/74 301M ,  B01J23/46 301M ,  B01J23/74 321M ,  H01M8/06 R
Fターム (19件):
4G169AA03 ,  4G169BA01B ,  4G169BA13B ,  4G169BB02B ,  4G169BB04B ,  4G169BC66B ,  4G169BC68B ,  4G169BC70B ,  4G169BC75B ,  4G169CB81 ,  4G169DA05 ,  4G169EA02Y ,  4G169EA18 ,  4G169EC28 ,  4G169EC29 ,  4G169EE09 ,  5H027AA02 ,  5H027BA09 ,  5H027DD00

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