ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-132311
公開番号（公開出願番号）：特開2010-277043
出願日： 2009年06月01日
公開日（公表日）： 2010年12月09日
要約：

【課題】ディフェクトの発生が抑制されたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】基材成分と、酸発生剤成分と、一般式(F-1で表される構成単位(F-1)からなる含フッ素重合体(F1)、又は前記構成単位(F-1)と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(F-2)及び一般式(F-3)で表される構成単位(F-3)からなる群から選択される少なくとも一種の構成単位とを有する特定量の含フッ素共重合体(F2)とを含有するポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)および含フッ素重合体成分(F)を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記含フッ素重合体成分(F)は、下記一般式(F-1)で表される構成単位(F-1)からなる含フッ素重合体(F1)、又は前記構成単位(F-1)と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(F-2)及び下記一般式(F-3)で表される構成単位(F-3)からなる群から選択される少なくとも一種の構成単位とを有する含フッ素共重合体(F2)を含み、前記含フッ素重合体成分(F)の含有量が、前記基材成分(A)100質量部に対して0.1〜20質量部の範囲内であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , C08F 20/28 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/004 501 , G03F7/039 601 , C08F20/28 , H01L21/30 502R

Fターム (51件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF33P , 2H125AF36P , 2H125AF70P , 2H125AH11 , 2H125AH16 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH23 , 2H125AH24 , 2H125AH29 , 2H125AJ14X , 2H125AJ55X , 2H125AJ63X , 2H125AJ64X , 2H125AJ69X , 2H125AM23P , 2H125AM32P , 2H125AM99P , 2H125AN02P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN54P , 2H125AN63P , 2H125AN65P , 2H125BA02P , 2H125BA08P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 4J100AJ02Q , 4J100AJ02R , 4J100AL08P , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BB10P , 4J100BB18P , 4J100BB18Q , 4J100BC02Q , 4J100BC09P , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100FA19 , 4J100JA38

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