特許

J-GLOBAL ID：201003026429773020

窒化ホウ素粉末の評価方法

発明者： 光石 健之 ,  原田 功 ,  渡辺 洋 ,  丸子 展弘 ,  渡利 広司 ,  佐藤 公泰 ,  白井 孝 ,  粂 正市
出願人/特許権者： 三井化学株式会社 ,  独立行政法人産業技術総合研究所
代理人 (2件)： 速水 進治 ,  佐藤 浩司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-245009
公開番号（公開出願番号）：特開2010-076956
出願日： 2008年09月24日
公開日（公表日）： 2010年04月08日
要約：

【課題】窒化ホウ素粉末の評価方法を提供すること。【解決手段】平均一次粒子径d50が0.2μm以上、4μm以下であり、拡散反射赤外分光測定により3600cm-1〜3750cm-1の範囲に検出される吸収ピークを有する窒化ホウ素粉末を良品として選別する。前記吸収ピークは、ホウ素原子に共有結合したOH基を示す吸収ピークである。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

窒化ホウ素粉末の平均一次粒径d50を測定するとともに、拡散反射赤外分光測定により窒化ホウ素粉末の吸収ピークを測定する測定工程と、 前記測定工程における測定結果が以下の(A)、(B)を満たす窒化ホウ素粉末を、良品と評価する一方、 前記測定工程における測定結果が以下の(A)および(B)のうち少なくともいずれか一方の条件を満たさない窒化ホウ素粉末を、不良品であると評価する評価工程とを有する窒化ホウ素粉末の評価方法。 (A)3600cm-1〜3750cm-1の範囲に拡散反射赤外分光測定による吸収ピークを有する (B)平均一次粒径d50が0.2μm以上、4μm以下

IPC (1件)：

C01B 21/064

FI (1件)：

C01B21/064 Z

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 窒化ホウ素粉末及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-224931   出願人：三井東圧化学株式会社