ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-116843
公開番号（公開出願番号）：特開2010-113334
出願日： 2009年05月13日
公開日（公表日）： 2010年05月20日
要約：

【課題】レジストパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】一般式(a0-1)で表される構成単位(a0)および酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)を有する高分子化合物(A1)を含有する基材成分(A)と、一般式(I)で表されるアニオン部を有する酸発生剤(B1)を含有する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、下記一般式(a0-1)で表される構成単位(a0)と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)とを有する高分子化合物(A1)を含有し、かつ、前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(I)で表されるアニオン部を有する酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , C08F 20/38 , C09K 3/00 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 503A , G03F7/004 501 , C08F20/38 , C09K3/00 K , H01L21/30 502R

Fターム (38件)：

2H125AF18P , 2H125AF21P , 2H125AF22P , 2H125AF33P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF70P , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AJ14X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AN02P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN54P , 2H125AN63P , 2H125BA02P , 2H125BA08P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100BA15P , 4J100BA58P , 4J100BC08P , 4J100BC53S , 4J100CA03 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100JA38

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