散乱減衰式断層撮影

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：熊倉禎男 , 大塚文昭 , 西島孝喜 , 須田洋之 , 上杉浩
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-525755
公開番号（公開出願番号）：特表2010-501860
出願日： 2007年08月22日
公開日（公表日）： 2010年01月21日
要約：

対をなす照射されるボクセルから求められる減衰に基づいて、検査される物体を特徴付ける方法である。伝播方向及びエネルギー分布によって特徴付けられる透過性放射線のビームが物体にわたって走査され、コリメートされた視野を有する散乱検出器が、透過性放射線の入射ビームによって遮断された、検査される物体の各ボクセルによって散乱した放射線を検出する。入射ビームの入射ボクセルの対間の透過性放射線の減衰を計算することによって、透過性放射線の1又はそれ以上のエネルギーの物体における減衰の、よって、種々の物質特性の3次元分布を特徴付ける断層撮影画像が得られる。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

透過性放射線の平均自由行程に基づいて物体を特徴付ける方法であって、伝播方向及びエネルギー分布によって特徴付けられる、透過性放射線の入射ビームを生成し、透過性放射線の前記ビームの周りに、各々の検出器が視野によって特徴付けられる複数の検出器要素を配置し、各々の検出器要素の前記視野をコリメートし、各々が前記検出器要素の1つの前記視野と透過性放射線の前記入射ビームの前記伝播方向との交点として定められる、検査される物体内にある複数のボクセルによって散乱した放射線を検出し、各々が透過性放射線の前記入射ビームの少なくとも2つの伝播方向の一方に対応する、ボクセルの対間の散乱した透過性放射線の減衰を計算する、ステップを含むことを特徴とする方法。

IPC (1件)：

G01N 23/04

FI (1件)：

G01N23/04

Fターム (13件)：

2G001AA01 , 2G001BA11 , 2G001BA14 , 2G001BA15 , 2G001CA01 , 2G001DA02 , 2G001DA06 , 2G001DA08 , 2G001GA08 , 2G001KA06 , 2G001KA12 , 2G001LA10 , 2G001SA02

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭53-117396
特開昭56-074644
特開昭53-120294

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