特許

J-GLOBAL ID：201003028563705874

露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 後藤 芳男
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-080573
公開番号（公開出願番号）：特開2010-232557
出願日： 2009年03月27日
公開日（公表日）： 2010年10月14日
要約：

【課題】1つの方向の直線偏光光で照明し、照明光学系、投影光学系の瞳面より上流の要因のみならず、投影光学系の瞳面の下流の要因で発生する経時的な偏光状態の劣化を補正し、高コントラストな露光を行う露光装置を提供する。【解決手段】 1つの方向の直線偏光光で原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、を有する露光装置において、前記投影光学系よりも前記基板側に設けられ、前記投影光学系を通過した光の偏光状態を計測する偏光計測手段と、前記投影光学系の瞳面に設けられ、前記偏光計測手段の計測結果に基づいて前記基板に入射する光の偏光状態を調整する偏光調整機構と、を有する構成とした。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

1つの方向の直線偏光光で原版を照明する照明光学系と、 前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、を有する露光装置において、 前記投影光学系よりも前記基板側に設けられ、前記投影光学系を通過した光の偏光状態を計測する偏光計測手段と、 前記投影光学系の瞳面に設けられ、前記偏光計測手段の計測結果に基づいて前記基板に入射する光の偏光状態を調整する偏光調整機構と、を有することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G02B 5/30

FI (3件)：

H01L21/30 516A ,  G03F7/20 521 ,  G02B5/30

Fターム (18件)：

2H149AA21 ,  2H149AB05 ,  2H149BA03 ,  2H149DA04 ,  2H149DA05 ,  2H149DA12 ,  2H149EA06 ,  5F046BA03 ,  5F046CB10 ,  5F046CB11 ,  5F046CB15 ,  5F046CB24 ,  5F046CB25 ,  5F046CB26 ,  5F046DA01 ,  5F046DA12 ,  5F046DB01 ,  5F046DC10