特許
J-GLOBAL ID：201003029063145119
上絵付けされた瓦及び上絵付けされた瓦の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
前田 勘次
, 大矢 正代
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-095221
公開番号（公開出願番号）：特開2010-241662
出願日： 2009年04月09日
公開日（公表日）： 2010年10月28日
要約：
【課題】上絵付けされた瓦であって、上絵具層における貫入の発生が抑制されていると共に、上絵具が残光性上絵具である場合に残光輝度の高い瓦を提供する。【解決手段】上絵付けされた瓦1は、陶器瓦の釉薬層3の表面に、雲母がガラスフリットの溶融物に含有された雲母層4が形成されており、雲母層の表面に、ガラスフリットと無機顔料とを含有する上絵具が焼き付けられた上絵具層5aと、ガラスフリットと残光性蛍光体とを含有する上絵具が焼き付けられた上絵具層5bとが形成されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
陶器瓦の釉薬層の表面に、雲母がガラスフリットの溶融物に含有された雲母層が形成されており、
前記雲母層の表面に、上絵具が焼き付けられた上絵具層が形成されており、
前記上絵具は、ガラスフリットと無機顔料又は/及び残光性蛍光体とを含有する
ことを特徴とする上絵付けされた瓦。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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