特許
J-GLOBAL ID：201003029364114766
プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
渡辺 昇
, 原田 三十義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-177484
公開番号（公開出願番号）：特開2010-020903
出願日： 2008年07月08日
公開日（公表日）： 2010年01月28日
要約：
【課題】プラズマ処理装置の噴出ガス中の荷電粒子を捕捉し除電する除電部の融断や酸化劣化を防止し、歩留まり低下を防止する。【解決手段】プラズマ生成部10の噴出口12と処理部19との間に、噴出口12より大面積の導電性のメッシュ又は多孔板からなる除電部31を介在させる。除電部31を接地線33を介し電気的に接地する。一対のロール32,32からなる移動手段によって除電部31を移動させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
処理ガスを、放電空間に通して前記放電空間の外部の処理部に配置された被処理物へ吹き付けてプラズマ処理を行う装置において、
前記放電空間と、この放電空間に連なり、かつ前記処理部に臨む噴出口を有するプラズマ生成部と、
前記噴出口より大面積の導電性のメッシュ又は多孔板からなり、前記噴出口と前記処理部との間に介在され、電気的に接地された除電部と、
前記介在状態が維持される範囲内で、前記プラズマ生成部と前記除電部とを連続的又は間欠的に相対移動させる移動手段と、
を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H05H 1/24
, H01L 21/306
, H01L 21/205
, C23C 16/50
H05H1/24
, H01L21/302 101E
, H01L21/205
, C23C16/50
4K030CA06
, 4K030CA12
, 4K030FA01
, 4K030GA04
, 4K030KA30
, 4K030LA18
, 5F004AA06
, 5F004BA03
, 5F004BC03
, 5F045AA08
, 5F045BB16
, 5F045EH04
, 5F045EH14
, 5F045EH20
