特許
J-GLOBAL ID:201003029639681615

脱硝触媒の再生方法、脱硝触媒の再生装置およびこれを用いた排ガス処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人 ユニアス国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-227247
公開番号(公開出願番号):特開2010-058067
出願日: 2008年09月04日
公開日(公表日): 2010年03月18日
要約:
【課題】 複雑で設備コストのかかる構成を要することなく、触媒を脱硝触媒装置から取り外すことなく、現場で効率のよい触媒の加熱再生を可能にすること。【解決手段】 脱硝触媒装置1の導入流路Lcと供出流路Ldとを閉鎖するダンパVcおよびVdと、該導入流路Lcと供出流路Ldに接続する再生ガス流路Lrと、再生ガス流路Lrに設けられたヒータ4およびファン5によって循環系を形成するとともに、薬剤導入部2に接続される処理ガス流路Lsと、これに繋がる集塵装置3に接続されるバイパス流路Ltと、バイパス流路Ltに設けられたアンモニア除去装置6によって再生ガス処理系が構成され、循環系内において循環しながら加熱された再生ガスの一部を取出し、処理ガス流路Lsを介して再生ガス処理系に導入し、中和処理および除塵処理を行い、さらにアンモニア除去処理を行うことを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
燃焼設備から発生する排ガス中の酸性ガス成分を中和処理するための薬剤を排ガス中に導入し、集塵装置により前記排ガス中の飛灰および/または反応生成物を処理するとともに、アンモニアが供給される脱硝触媒装置により排ガス中の窒素酸化物を脱硝処理する排ガス処理装置において、該脱硝触媒装置に充填された脱硝触媒の再生方法であって、 前記燃焼設備停止時に、前記排ガス処理系内のガスの一部を350〜500°Cに加熱し、再生ガスとして前記脱硝触媒装置に循環的に供給する循環系を形成するとともに、該再生ガスの一部を取出し、前記中和処理および除塵処理を行い、さらに該再生ガス中のアンモニア除去処理を行うことを特徴とする脱硝触媒の再生方法。
IPC (6件):
B01J 38/04 ,  B01J 23/92 ,  B01D 53/94 ,  B01D 53/96 ,  B01D 53/50 ,  B01D 53/81
FI (4件):
B01J38/04 A ,  B01J23/92 A ,  B01D53/36 102E ,  B01D53/34 124Z
Fターム (40件):
4D002AA02 ,  4D002AA12 ,  4D002AC04 ,  4D002BA03 ,  4D002BA06 ,  4D002BA13 ,  4D002BA14 ,  4D002CA01 ,  4D002CA13 ,  4D002DA02 ,  4D002DA03 ,  4D002DA05 ,  4D002DA07 ,  4D002DA12 ,  4D002DA16 ,  4D002DA70 ,  4D002EA02 ,  4D002EA07 ,  4D002GA01 ,  4D002GB03 ,  4D002GB20 ,  4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048BA07X ,  4D048BA23X ,  4D048BA26X ,  4D048BA27X ,  4D048BB02 ,  4D048BD02 ,  4G169AA10 ,  4G169BA04B ,  4G169BB04B ,  4G169BC54B ,  4G169BC59B ,  4G169BC60B ,  4G169CA08 ,  4G169CA13 ,  4G169EA02Y ,  4G169EA18 ,  4G169GA02
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 触媒の再生方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-031022   出願人:株式会社日本触媒
  • 触媒の再生方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-013071   出願人:新日本製鐵株式会社

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