重合性アニオンを有するスルホニウム塩及び高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：小島隆司 , 重松沙織 , 小林克成 , 石川武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-188232
公開番号（公開出願番号）：特開2010-077404
出願日： 2009年08月17日
公開日（公表日）： 2010年04月08日
要約：

【課題】フォトリソグラフィーにおいて、高解像性かつ露光余裕度に優れたレジスト材料のベース樹脂用の単量体として有用な重合性アニオンを有するスルホニウム塩、そのスルホニウム塩から得られる高分子化合物、その高分子化合物を含有するレジスト材料及びそのレジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】一般式(1)で示されるスルホニウム塩。(AはC1〜20の二価の有機基。nは0又は1)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるスルホニウム塩。

IPC (6件)：

C08F 20/38 , C07C 309/12 , G03F 7/004 , G03F 7/38 , H01L 21/027 , C07C 381/12

FI (7件)：

C08F20/38 , C07C309/12 , G03F7/004 503A , G03F7/004 504 , G03F7/38 501 , H01L21/30 502R , C07C381/12

Fターム (78件)：

2H096AA25 , 2H096BA11 , 2H096DA04 , 2H096EA02 , 2H096EA05 , 2H096EA06 , 2H096EA07 , 2H096EA23 , 2H096FA01 , 2H096GA08 , 2H096JA02 , 2H125AF17P , 2H125AF34P , 2H125AF36P , 2H125AH05 , 2H125AH06 , 2H125AH12 , 2H125AH15 , 2H125AH16 , 2H125AH19 , 2H125AH24 , 2H125AH25 , 2H125AJ04X , 2H125AJ04Y , 2H125AJ14X , 2H125AJ23Y , 2H125AJ26Y , 2H125AJ48X , 2H125AJ48Y , 2H125AJ63X , 2H125AJ64X , 2H125AJ64Y , 2H125AJ65X , 2H125AJ68X , 2H125AJ69X , 2H125AJ70X , 2H125AJ70Y , 2H125AM70P , 2H125AM99P , 2H125AN31P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN62P , 2H125BA01P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CB12 , 2H125CB16 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB46 , 4H006AB80 , 4J100AB00R , 4J100AB07R , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100BA02Q , 4J100BA03Q , 4J100BA03R , 4J100BA11Q , 4J100BA15P , 4J100BA51P , 4J100BB10P , 4J100BB11Q , 4J100BB13P , 4J100BC09Q , 4J100BC49Q , 4J100BC53Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100FA06 , 4J100FA19 , 4J100JA38

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