特許
J-GLOBAL ID：201003030297115025
超音波照射陽極酸化法による二酸化チタン製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (6件)：
重信 和男
, 水野 昭宣
, 清水 英雄
, 高木 祐一
, 中野 佳直
, 秋庭 英樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-168141
公開番号（公開出願番号）：特開2010-007131
出願日： 2008年06月27日
公開日（公表日）： 2010年01月14日
要約：
【課題】光触媒活性と超親水性機能に優れた二酸化チタンを、工業的生産に適している、簡単な手法で得ることが求められている。【解決手段】チタンまたはチタン合金からなる基材の表面に、超音波照射下で、電圧を印加して陽極酸化を施すことによりあるいは高電流密度条件下に陽極酸化を施すことにより、結晶性に優れたアナタース型二酸化チタンを製造することができ、さらに、該基材の表面に、超音波を照射すると共に、電圧を印加しての陽極酸化法あるいは高電流密度条件下の陽極酸化法により作製した膜に熱処理を施すことで、結晶性に優れたアナタース型二酸化チタンを製造することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
チタンまたはチタン合金からなる基材の表面に、(a)超音波照射下で、(b)(i)電圧を印加
して陽極酸化を施すあるいは(ii)高電流密度条件下に陽極酸化を施すことにより、結晶性に優れたアナタース型二酸化チタンを製造する方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
引用文献：
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