特許

J-GLOBAL ID：201003030844240034

基板搬送装置及び基板処理システム

発明者： 戸島 孝之 ,  寺田 和雄
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-024025
公開番号（公開出願番号）：特開2010-182817
出願日： 2009年02月04日
公開日（公表日）： 2010年08月19日
要約：

【課題】パターン倒れの発生を抑えると共に、簡素な構成の基板搬送装置等を提供する。【解決手段】基板搬送装置の搬送トレイ50は基板を保持する底板511、521と、その周囲に設けられた側周壁512、522とから構成されると共に、底板511、521には基板の受け渡しを行う相手である昇降部材が通過するための開口部53が設けられている。さらに搬送トレイ50には、開口部53内の昇降部材を搬送トレイ50の外側に通り抜けさせる空間54が一時的に形成されると共に、基板の搬送時には搬送トレイ50内に液体が溜められ、基板の上面側が当該液体に接した状態で基板を搬送する。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

基板の上面側に液体が接した状態で基板を搬送し、基板の下面を支持する昇降部材との間で基板を受け渡す基板搬送装置において、 その上面に基板を保持する底板と、この底板における基板が保持される領域の周囲に設けられた側周壁と、を備えた搬送トレイと、 この搬送トレイの底面に形成され、前記昇降部材が通過するための開口部と、 前記搬送トレイを水平移動させる移動機構と、 前記搬送トレイを水平移動させたときに、前記昇降部材が前記開口部と搬送トレイの外側との間で通り抜けができるように一時的に空間を形成する空間形成部と、を備え、 基板搬送時には、前記底板及びこの底板に保持された基板と前記側周壁とで囲まれる液溜め空間内に前記液体を溜めることを特徴とする基板搬送装置。

IPC (2件)：

H01L 21/677 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

H01L21/68 A ,  H01L21/304 641 ,  H01L21/304 648A

Fターム (35件)：

5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031FA21 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA50 ,  5F031HA37 ,  5F031MA23 ,  5F157AA73 ,  5F157AA77 ,  5F157AB02 ,  5F157AB12 ,  5F157AB33 ,  5F157AB44 ,  5F157AB72 ,  5F157AB89 ,  5F157AC01 ,  5F157AC03 ,  5F157AC53 ,  5F157BB02 ,  5F157BC33 ,  5F157CB03 ,  5F157CB26 ,  5F157CE36 ,  5F157CE64 ,  5F157CF24 ,  5F157CF34 ,  5F157CF62 ,  5F157CF66 ,  5F157DA21 ,  5F157DB03 ,  5F157DB33