特許

J-GLOBAL ID：201003031024567647

放射システムおよびこれを含むリソグラフィ装置

発明者： ヴァン ハーペン,マーテン,マリヌス,ヨハネス,ウィルヘルムス ,  バニエ,バディム,エヴィジェンエビッチ ,  フランケン,ヨハネス,クリスティアーン,レオナルドス ,  フラインス,オラフ,ワルデマー,フラジミル ,  クランダー,デルク,ジャン,ウィルフレッド ,  ドリエッセン,ニールス マキケル ,  スール,ワウター,アントン
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. ,  コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ
代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-530300
公開番号（公開出願番号）：特表2010-505261
出願日： 2007年09月25日
公開日（公表日）： 2010年02月18日
要約：

極端紫外線リソグラフィシステムにおける使用のための光センサ装置が開示される。装置は、センサ表面およびセンサ表面からデブリを除去する除去機構を備えた光るセンサを含む。したがって、ドーズおよび/または汚染測定は、リソグラフィシステムに対して都合よく行われ得る。

請求項（抜粋）：

極端紫外線リソグラフィシステムにおける使用のための光センサ装置であって、 センサ表面を含む光センサと、 前記センサ表面からデブリを除去する除去機構と を含む、光センサ装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 531A ,  H01L21/30 503G ,  G03F7/20 521

Fターム (8件)：

5F046AA17 ,  5F046AA22 ,  5F046DA01 ,  5F046DB01 ,  5F046DC02 ,  5F046GA14 ,  5F046GA20 ,  5F046GC03

引用特許：

審査官引用 (14件)

• 光学素子における蒸着物の除去方法、光学素子の保護方法、デバイス製造方法、光学素子を含む装置、およびリソグラフィ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-289648   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-414495   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 平板投影装置、素子製造方法およびそれによって製造された素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-252774   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
• 放射検出器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-321408   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• リソグラフィ機器で使用するミラー上での上部層の使用、リソグラフィ機器で使用するミラー、このようなミラーを備えるリソグラフィ機器、及びデバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-304405   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 放電容器及びその放電容器を備えたプラズマラジカル生成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-207851   出願人：静岡大学長
• 反射度を高めた多層極端紫外線ミラー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-194831   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
• 極端紫外光学素子用のキャッピング層
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-195020   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
• 露光装置及びその制御方法、これを用いたデバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-020213   出願人：キヤノン株式会社
• リソグラフィ露光装置における汚染検出および監視のための方法およびシステム、ならびに調整された雰囲気条件下でのその動作方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-534658   出願人：アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド
• 露光方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-157635   出願人：株式会社ニコン
• 洗浄デバイスを含むリソグラフィ装置、および光学エレメントを洗浄するための方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2008-543220   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
• マスクハンドリング装置、平板投影装置、素子製造方法およびそれによって製造された素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-252721   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
• リソグラフィ装置およびそのためのクリーニング方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2008-516768   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.