特許

J-GLOBAL ID：201003032270579871

インプリント装置

発明者： 春見 和之
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 藤元 亮輔 ,  水本 敦也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-232791
公開番号（公開出願番号）：特開2010-067796
出願日： 2008年09月11日
公開日（公表日）： 2010年03月25日
要約：

【課題】残膜厚を均一にするインプリント装置を提供する。【解決手段】パターンを有する型を基板上の樹脂に押し付け、前記型を前記樹脂から離すことによって前記パターンを前記基板に転写するインプリント装置であって、基板Wに対向するチャックの表面に設けられた溝203を硬化時に陽圧にして基板WをモールドMに押し付けるインプリント装置1を提供する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

パターンを有する型を基板上の樹脂に押し付け、前記型を前記樹脂から離すことによって前記パターンを前記基板に転写するインプリント装置であって、 前記基板を保持する面に溝を有する基板保持部材と、 前記基板保持部材の前記溝を排気する排気系と、 前記樹脂を硬化する硬化部と、 前記基板保持部材の前記溝に、前記基板の雰囲気の圧力以上の圧力を加える加圧系と、 を有し、 前記硬化部が前記樹脂を硬化している間、前記排気系は前記基板保持部材の前記溝の排気を停止し且つ前記加圧系は前記基板保持部材の前記溝に前記圧力を加えることを特徴とするインプリント装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  B29C 59/02 ,  G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z ,  G03F7/20 501

Fターム (15件)：

2H097AA20 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AM28 ,  4F209AR02 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28