特許
J-GLOBAL ID:201003032568545732
足場
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
村山 靖彦
, 志賀 正武
, 渡邊 隆
, 実広 信哉
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-520623
公開番号(公開出願番号):特表2010-535605
出願日: 2008年08月14日
公開日(公表日): 2010年11月25日
要約:
本発明は、組織の増大、修復および再生において使用するための組織インプラントを調製する方法に関する。
請求項(抜粋):
組織インプラントをインビトロで調製する方法であって、
(a)適切な組織源から単離された細胞を提供する段階;
(b)前記細胞を少なくとも2つの第1の足場に播種し、前記細胞が細胞外マトリックスを分泌するのに十分な時間、これらの足場を培養する段階;および
(c)(b)で得られた少なくとも2つの足場を第2の足場に添加する段階
を含む方法。
IPC (1件):
FI (2件):
A61L27/00 V
, A61L27/00 G
Fターム (31件):
4C081AB03
, 4C081AB04
, 4C081BA12
, 4C081BA13
, 4C081BA16
, 4C081CA051
, 4C081CA081
, 4C081CA161
, 4C081CA171
, 4C081CA181
, 4C081CA191
, 4C081CA201
, 4C081CA211
, 4C081CA231
, 4C081CA241
, 4C081CC01
, 4C081CD011
, 4C081CD041
, 4C081CD081
, 4C081CD091
, 4C081CD111
, 4C081CD121
, 4C081CD151
, 4C081CD27
, 4C081CD28
, 4C081CD34
, 4C081CE02
, 4C081CF011
, 4C081CF21
, 4C081DB03
, 4C081EA02
引用特許:
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