特許

J-GLOBAL ID：201003032711482429

ミスト発生装置

発明者： 依田 香子
出願人/特許権者： パナソニック電工株式会社
代理人 (2件)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-126269
公開番号（公開出願番号）：特開2010-273701
出願日： 2009年05月26日
公開日（公表日）： 2010年12月09日
要約：

【課題】液剤を効率良く対象物に付着させることが可能なミスト発生装置を提供する。【解決手段】ミストM1を発生させて噴霧対象物Fに噴霧するミスト発生機構12と、液剤M2を霧化して前記噴霧対象物に噴霧する液剤噴霧機構13と、前記ミストと前記液剤とを交互に噴霧させるように前記ミスト発生機構及び前記液剤噴霧機構を制御する制御手段14とを備え、ミストと液剤とを別々に噴霧させるため、対象物に過剰に付着したミストの水分とともに流れ落ちる液剤の量を抑えた。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ミストを発生させて噴霧対象物に噴霧するミスト発生機構と、 液剤を霧化して前記噴霧対象物に噴霧する液剤噴霧機構と、 前記ミストと前記液剤とを交互に噴霧させるように前記ミスト発生機構及び前記液剤噴霧機構を制御する制御手段と を備えたことを特徴とするミスト発生装置。

IPC (4件)：

A61H 33/12 ,  A61M 11/04 ,  F24F 6/02 ,  F24F 6/00

FI (6件)：

A61H33/12 B ,  A61H33/12 G ,  A61H33/12 Z ,  A61M11/04 350A ,  F24F6/02 B ,  F24F6/00 E

Fターム (9件)：

3L055CA04 ,  3L055DA03 ,  3L055DA12 ,  4C094AA04 ,  4C094BC18 ,  4C094DD09 ,  4C094EE03 ,  4C094EE08 ,  4C094GG06