特許

J-GLOBAL ID：201003032881000267

選択還元触媒装置

発明者： 播磨 健司
出願人/特許権者： 富士重工業株式会社
代理人 (2件)： 稲田 弘明 ,  渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-320922
公開番号（公開出願番号）：特開2010-144569
出願日： 2008年12月17日
公開日（公表日）： 2010年07月01日
要約：

【課題】排気ガスと還元剤との混合状態を改善し、排気ガスの浄化性能を向上した選択還元触媒装置を提供する。【解決手段】選択還元触媒コンバータ310と、還元剤供給手段340と、排気ガスに旋回流を発生させる旋回流発生手段350とを備える選択還元触媒装置300を、旋回流発生手段は、円盤部351の複数の開口355にそれぞれ設けられ排気ガスに旋回流を発生させるフィン部352を備え、フィン部は、円盤部の外周縁部近傍において円盤部の接線方向に略沿って円盤部に接続されるとともに、円盤部の内径側に向かって円盤部に対して傾斜して伸びかつ先細り形状に形成され、フィン部の突端部354は、フィン部と円盤部との接続部353と直交する円盤部の直径に対してオフセットして配置される構成とする。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

エンジンの排気ガスが導入される排気管路と、 前記排気管路内に配置された選択還元触媒コンバータと、 前記選択還元触媒コンバータの上流側に設けられ前記排気管路の内部に還元剤を供給する還元剤供給手段と、 前記排気管路内における前記選択還元触媒コンバータの上流側に設けられ前記排気ガスに旋回流を発生させる旋回流発生手段と を備える選択還元触媒装置であって、 前記旋回流発生手段は、 前記排気管路内に前記排気ガスの流路方向とほぼ直交して配置された円盤部と、 前記円盤部の周方向に分散して設けられ、前記円盤部を貫通して形成された複数の開口と、 前記複数の開口にそれぞれ設けられ前記排気ガスに旋回流を発生させるフィン部と を備え、 前記フィン部は、前記円盤部の外周縁部近傍において前記円盤部の接線方向に略沿って所定の長さにわたって前記円盤部に接続されるとともに、前記円盤部の内径側に向かって前記円盤部に対して傾斜して伸びかつ先細り形状に形成され、 前記フィン部の突端部は、前記円盤部の法線方向から見たときに、前記フィン部と前記円盤部との接続部と直交する前記円盤部の直径に対してオフセットして配置されること を特徴とする選択還元触媒装置。

IPC (4件)：

F01N 3/24 ,  B01D 53/94 ,  B01J 29/06 ,  F01N 3/08

FI (4件)：

F01N3/24 N ,  B01D53/36 101A ,  B01J29/06 A ,  F01N3/08 B

Fターム (35件)：

3G091AA18 ,  3G091AB02 ,  3G091AB06 ,  3G091AB09 ,  3G091AB13 ,  3G091BA14 ,  3G091BA38 ,  3G091CA17 ,  3G091CA27 ,  3G091HA10 ,  3G091HA14 ,  3G091HA46 ,  4D048AA06 ,  4D048AB01 ,  4D048AB02 ,  4D048AB03 ,  4D048AC10 ,  4D048BA03X ,  4D048BA11X ,  4D048BA30X ,  4D048BA41X ,  4D048CC23 ,  4D048CC61 ,  4G169AA03 ,  4G169BA01B ,  4G169BA07B ,  4G169BC75B ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA07 ,  4G169CA08 ,  4G169CA10 ,  4G169CA13 ,  4G169DA06 ,  4G169EE09

引用特許：

出願人引用 (2件)

• エンジンの排気浄化装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-285822   出願人：株式会社デンソー
• 特許第3892452号