特許
J-GLOBAL ID:201003034362086700
フレキシブル光導波路の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
大谷 保
, 東平 正道
, 塚脇 正博
, 平澤 賢一
, 伊藤 高志
, 広瀬 久美
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-017180
公開番号(公開出願番号):特開2010-175741
出願日: 2009年01月28日
公開日(公表日): 2010年08月12日
要約:
【課題】屈曲耐久性に優れ、光損失の少ないフレキシブル光導波路の製造方法を提供すること。【解決手段】(I)第1のクラッド層を形成する工程、(II)該第1のクラッド層上の少なくとも一方の端部にコア層形成用樹脂フィルムを積層して第1のコア層を形成する工程、(III)該第1のコア層上及び該第1のクラッド層上の全面にコア層形成用樹脂フィルムを積層して第2のコア層を形成する工程、(IV)該第1のコア層及び該第2のコア層をパターニングして、光導波路のコアパターンを形成する工程、(V)該コアパターン及び該第1のクラッド層上に第2のクラッド層を形成してコアパターンを埋め込む工程を有するフレキシブル光導波路の製造方法である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
(I)第1のクラッド層を形成する工程、(II)該第1のクラッド層上の少なくとも一方の端部にコア層形成用樹脂フィルムを積層して第1のコア層を形成する工程、(III)該第1のコア層上及び該第1のクラッド層上の全面にコア層形成用樹脂フィルムを積層して第2のコア層を形成する工程、(IV)該第1のコア層及び該第2のコア層をパターニングして、光導波路のコアパターンを形成する工程、(V)該コアパターン及び該第1のクラッド層上に第2のクラッド層を形成してコアパターンを埋め込む工程を有するフレキシブル光導波路の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (21件):
2H147AB04
, 2H147AB05
, 2H147BB03
, 2H147BG17
, 2H147CB03
, 2H147EA16A
, 2H147EA16B
, 2H147EA16C
, 2H147EA16D
, 2H147EA17C
, 2H147EA19A
, 2H147EA19B
, 2H147EA20A
, 2H147EA20B
, 2H147FB07
, 2H147FB09
, 2H147FC02
, 2H147FC03
, 2H147FE02
, 2H147FF02
, 2H147FF05
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
光導波路の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-123830
出願人:日東電工株式会社
審査官引用 (1件)
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光導波路の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-123830
出願人:日東電工株式会社
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