特許
J-GLOBAL ID:201003034506508809
薄膜の形成方法及び内燃機関の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
吉田 研二
, 石田 純
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-238227
公開番号(公開出願番号):特開2010-070792
出願日: 2008年09月17日
公開日(公表日): 2010年04月02日
要約:
【課題】薄膜の焼成時に発生するガスが薄膜内に残存して薄膜の強度が設計強度よりも低下するのを防ぐ。【解決手段】ガス抜用加熱工程では、有機珪素化合物22内に粒子21が多数混入された薄膜20を加熱して、各粒子21内の樹脂21dを熱分解させてガス化させるとともに、有機珪素化合物22の熱分解により発生するガス22aを薄膜20から抜く。焼成用加熱工程では、ガス抜用加熱工程後の薄膜20をガス抜用加熱工程よりも高い温度で加熱して、セラミック材料の層21bを緻密化させるとともに、熱分解後の珪素化合物22bを焼成する。【選択図】図5
請求項(抜粋):
基材上に薄膜を形成する方法であって、
粒状の樹脂の周りを無機化合物の層で覆った粒子を製造する粒子製造工程と、
基材上に塗布された、有機化合物と多数の前記粒子とを含む薄膜を加熱して、該粒子内の樹脂をガス化させるとともに、前記有機化合物の熱分解により発生するガスを薄膜から抜くガス抜用加熱工程と、
ガス抜用加熱工程後の薄膜をガス抜用加熱工程よりも高い温度で加熱して、前記無機化合物の層を緻密化させるとともに、熱分解後の前記有機化合物を焼成する焼成用加熱工程と、
を含むことで、各粒子内に気泡が形成された薄膜を基材上に形成する、薄膜の形成方法。
IPC (7件):
C23C 24/08
, F02F 3/10
, F02F 1/00
, F01L 3/04
, F01L 3/02
, F02B 23/00
, C04B 38/06
FI (7件):
C23C24/08 Z
, F02F3/10 B
, F02F1/00 G
, F01L3/04
, F01L3/02 J
, F02B23/00 D
, C04B38/06 Z
Fターム (21件):
3G023AA02
, 3G023AE04
, 3G023AE06
, 3G023AE07
, 3G024AA22
, 3G024FA10
, 3G024GA18
, 3G024HA10
, 4K044AA01
, 4K044AB03
, 4K044BA12
, 4K044BA13
, 4K044BA14
, 4K044BA18
, 4K044BA21
, 4K044BB11
, 4K044BB14
, 4K044BC12
, 4K044CA04
, 4K044CA53
, 4K044CA62
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)