特許
J-GLOBAL ID:201003034805275179

酸化チタン系光触媒薄膜の製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岩見谷 周志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-159324
公開番号(公開出願番号):特開2010-000412
出願日: 2008年06月18日
公開日(公表日): 2010年01月07日
要約:
【課題】触媒活性が高く、透明性、基材への密着性および均一性が充分であり、特に可視光応答性に優れる酸化チタン系光触媒薄膜を製造する方法を提供する。【解決手段】(A)ペルオキソチタンを含有する酸化チタンと、(B)バナジウム族元素、クロム族元素、マンガン、鉄族元素、銅、亜鉛、ガリウム、ケイ素、ジルコニウム、銀および白金からなる群より選択される少なくとも1種の金属元素の酸化物の微粒子;前記群より選択される少なくとも2種の金属元素同士の固溶体の微粒子;ならびに前記群より選択される少なくとも2種の金属元素の酸化物同士の固溶体の微粒子、からなる群より選択される少なくとも1種の金属元素含有微粒子と、を含む酸化チタン系光触媒薄膜を基材上に形成させることを特徴とする酸化チタン系光触媒薄膜の製造法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(A)ペルオキソチタンを含有する酸化チタンと、 (B)バナジウム族元素、クロム族元素、マンガン、鉄族元素、銅、亜鉛、ガリウム、ケイ素、ジルコニウム、銀および白金からなる群より選択される少なくとも1種の金属元素の酸化物の微粒子;前記群より選択される少なくとも2種の金属元素同士の固溶体の微粒子;ならびに前記群より選択される少なくとも2種の金属元素の酸化物同士の固溶体の微粒子、からなる群より選択される少なくとも1種の金属元素含有微粒子と を含む酸化チタン系光触媒薄膜を基材上に形成させることを特徴とする酸化チタン系光触媒薄膜の製造法。
IPC (3件):
B01J 35/02 ,  B01J 23/06 ,  B01J 21/06
FI (3件):
B01J35/02 J ,  B01J23/06 M ,  B01J21/06 M
Fターム (37件):
4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA48A ,  4G169BC17A ,  4G169BC17B ,  4G169BC31A ,  4G169BC32A ,  4G169BC35A ,  4G169BC35B ,  4G169BC51A ,  4G169BC51B ,  4G169BC54A ,  4G169BC58A ,  4G169BC62A ,  4G169BC66A ,  4G169BC72A ,  4G169BD05A ,  4G169CA10 ,  4G169CA15 ,  4G169DA05 ,  4G169EA08 ,  4G169EB15Y ,  4G169EB18Y ,  4G169FB23 ,  4G169FB58 ,  4G169FC07 ,  4G169HA02 ,  4G169HB02 ,  4G169HC02 ,  4G169HC03 ,  4G169HC21 ,  4G169HC29 ,  4G169HC35 ,  4G169HD05 ,  4G169HD10 ,  4G169HE06 ,  4G169HE12
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (8件)
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