特許
J-GLOBAL ID：201003035910796326

排ガス浄化用触媒、及び排ガス浄化用触媒の製造方法

発明者：
藤田 克幸

藤田 克幸 について


出願人/特許権者：
東京濾器株式会社

東京濾器株式会社 について


代理人 (1件)： 一色国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-169307
公開番号（公開出願番号）：特開2010-005565
出願日： 2008年06月27日
公開日（公表日）： 2010年01月14日
要約：
【課題】低温活性に優れた性能を有するとともに、耐久性に優れたOSCをも有し、しかも、層厚の増加を招くことのない排ガス浄化用触媒、及び排ガス浄化用触媒の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の排ガス浄化用触媒は、ハニカム状のモノリスの全体に、PM/アルミナ担体とPM/CeZr担体とを含有するコーティング層が形成されており、当該コーティング層のうち排ガス流出側の領域には、PM/アルミナ担体とPM/CeZr担体との間隙にCeZr複合微粒子が導入されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ハニカム状のモノリスの全体に、Pt、Pd、Rhのうち少なくとも一種以上の貴金属(PM)がアルミナ担体に担持されてなるPM/アルミナ担体と、Pt、Pd、Rhのうち少なくとも一種以上の貴金属(PM)がCeZr担体に担持されてなるPM/CeZr担体とを含有するコーティング層が形成されており、当該コーティング層のうち排ガス流出側の領域には、前記PM/アルミナ担体と前記PM/CeZr担体との間隙にCeZr複合微粒子が導入されていることを特徴とする排ガス浄化用触媒。
IPC (6件)：
B01D 53/94 ,  B01D 53/86 ,  B01J 23/63 ,  B01J 37/02 ,  F01N 3/28 ,  F01N 3/10
FI (6件)：
B01D53/36 104A ,  B01D53/36 ,  B01J23/56 301A ,  B01J37/02 301D ,  F01N3/28 301Q ,  F01N3/10 A
Fターム (58件)：
3G091AA02 ,  3G091AA17 ,  3G091AB03 ,  3G091BA01 ,  3G091BA14 ,  3G091BA15 ,  3G091BA19 ,  3G091BA38 ,  3G091BA39 ,  3G091GA06 ,  3G091GA18 ,  3G091GB04W ,  3G091GB05X ,  3G091GB06W ,  3G091GB07W ,  3G091GB10X ,  4D048AA06 ,  4D048AA13 ,  4D048AA18 ,  4D048AB01 ,  4D048AB02 ,  4D048AB05 ,  4D048BA03X ,  4D048BA08X ,  4D048BA19X ,  4D048BA30Y ,  4D048BA31X ,  4D048BA33X ,  4D048BA41X ,  4D048BB02 ,  4D048BB16 ,  4D048CC46 ,  4D048EA04 ,  4G169AA01 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01A ,  4G169BA01B ,  4G169BC43A ,  4G169BC43B ,  4G169BC51A ,  4G169BC51B ,  4G169BC71A ,  4G169BC71B ,  4G169BC72A ,  4G169BC72B ,  4G169BC75A ,  4G169CA03 ,  4G169CA07 ,  4G169CA08 ,  4G169CA09 ,  4G169EA18 ,  4G169EB18X ,  4G169EB18Y ,  4G169FA01 ,  4G169FA03 ,  4G169FB15 ,  4G169FB19
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 排気ガス処理用触媒
    公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-506224   出願人：エンゲルハード・コーポレーシヨン

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