特許

J-GLOBAL ID：201003036062601583

液体噴射装置

発明者： 音喜多 賢二
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-056026
公開番号（公開出願番号）：特開2010-208120
出願日： 2009年03月10日
公開日（公表日）： 2010年09月24日
要約：

【課題】バンド方式で液体噴射を行う際に、バンド境界におけるスジの発生を緩和する。【解決手段】液体噴射ヘッド(11)のノズル列(101)を、ノズル列(101)の中央に配置され噴射する液体量が比較的多い大ノズル(102a)と、ノズル列(101)の少なくとも一端側に配置され噴射する液体量が比較的少ない小ノズル(103a、104a)とにより構成し、ひとつの主走査と次の主走査とで噴射対象上の大ノズル(102a)により液体が噴射される領域の間に空き領域が生じ、この空き領域に小ノズル(103a、104a)による液体の噴射が行われるように副走査を行う。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

液体を噴射するノズル列が設けられた液体噴射ヘッドと、 この液体噴射ヘッドと噴射対象とを上記ノズル列の列方向と交差する方向に相対的に移動させて主走査を行う主走査手段と、 上記液体噴射ヘッドから噴射される液体の上記噴射対象上の位置が主走査毎にずれるように、上記噴射対象と上記液体噴射ヘッドとを相対的に移動させて副走査を行う副走査手段と を有し、 上記ノズル列は、上記ノズル列の中央に配置され噴射する液体量が比較的多い大ノズルと、上記ノズル列の少なくとも一端側に配置され噴射する液体量が比較的少ない小ノズルとにより構成され、 上記副走査手段は、ひとつの主走査と次の主走査とで上記噴射対象上の上記大ノズルにより液体が噴射される領域の間に空き領域が生じ、この空き領域に上記小ノズルによる液体の噴射が行われ、かつ上記小ノズルによる上記噴射対象上の液体噴射位置が、前回の主走査または次回の主走査における上記噴射対象上の上記大ノズルによる液体の噴射位置の周期から上記ノズル列の列方向にずれるように副走査を行う ことを特徴とする液体噴射装置。

IPC (3件)：

B41J 2/01 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055

FI (2件)：

B41J3/04 101Z ,  B41J3/04 103A

Fターム (12件)：

2C056EA08 ,  2C056EC07 ,  2C056EC12 ,  2C056EC72 ,  2C056FA10 ,  2C056HA21 ,  2C057AF31 ,  2C057AG13 ,  2C057AM15 ,  2C057AN01 ,  2C057BA03 ,  2C057BA14