特許

J-GLOBAL ID：201003036308578217

スルホン酸修飾水性アニオンシリカゾル及びその製造方法

発明者： 天内 康人 ,  日野 洋輔 ,  柳澤 孝郎
出願人/特許権者： 扶桑化学工業株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-124384
公開番号（公開出願番号）：特開2010-269985
出願日： 2009年05月22日
公開日（公表日）： 2010年12月02日
要約：

【課題】酸性条件下での安定性が高く、金属不純物の含有量が低く、しかも濾過性が良好であるスルホン酸修飾水性アニオンシリカゾル及びその製造方法を提供する。【解決手段】コロイダルシリカに、化学的にスルホン酸基に変換できる官能基を有するシランカップリング剤を添加した後、前記官能基をスルホン酸基に変換するスルホン酸修飾水性アニオンシリカゾルの製造方法、及びそれにより得られるpH2以上の酸性においてゼータ電位が-15mV以下であるスルホン酸修飾水性アニオンシリカゾル。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

pH2以上の酸性においてゼータ電位が-15mV以下であるスルホン酸修飾水性アニオンシリカゾル。

IPC (1件)：

C01B 33/146

FI (1件)：

C01B33/146

Fターム (29件)：

4G072AA28 ,  4G072CC01 ,  4G072DD06 ,  4G072EE01 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH29 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ23 ,  4G072JJ50 ,  4G072KK03 ,  4G072KK09 ,  4G072LL09 ,  4G072LL11 ,  4G072MM01 ,  4G072MM06 ,  4G072MM21 ,  4G072PP01 ,  4G072QQ05 ,  4G072QQ20 ,  4G072RR03 ,  4G072RR05 ,  4G072RR12 ,  4G072RR15 ,  4G072TT19 ,  4G072TT30 ,  4G072UU25 ,  4G072UU26 ,  4G072UU30