特許
J-GLOBAL ID:201003036407162430

ドット位置測定方法及び装置並びにプログラム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松浦 憲三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-253436
公開番号(公開出願番号):特開2010-087758
出願日: 2008年09月30日
公開日(公表日): 2010年04月15日
要約:
【課題】画像読取装置のキャリッジ変動等による測定誤差や用紙変形に起因する測定誤差を改善し、記録ヘッドの各記録素子で記録されるドット位置を高速且つ高精度に測定する。【解決手段】記録ヘッドの実質的な記録素子の並び方向に所定間隔離れた記録素子を用いて記録される複数のラインブロック0〜3と、各ラインブロックに対して、それぞれ同じ記録素子で記録されるラインを含んだ基準ラインブロック(ラインブロック4)と、を有する測定用ラインパターンを形成し、該測定用ラインパターン上のライン(92)の長手方向を画像読取装置の副走査方向に向けて読み取りを行う。読取画像から各ラインブロック内のライン位置を特定し、得られたライン位置を基準ラインブロックに基づいて補正する。【選択図】図9
請求項(抜粋):
複数の記録素子を有する記録ヘッドと記録媒体を相対移動させながら、前記記録素子によってドットを連続して記録することにより、前記記録媒体上に各記録素子に対応したドット列による複数のラインを含んだ測定用ラインパターンを形成するラインパターン形成工程であって、前記記録ヘッドの前記相対移動の方向に直交する実質的な記録素子の並び方向に所定間隔離れた記録素子を用いて記録されるライン群で構成されるラインブロックを、前記記録媒体上において前記ラインの長手方向の異なる位置に複数形成してなる複数のラインブロックと、前記複数のラインブロックの各ラインブロックに対して、それぞれ同じ記録素子で記録されるラインを含んだ基準ラインブロックと、を有する前記測定用ラインパターンを形成する前記ラインパターン形成工程と、 前記ラインパターン形成工程により前記記録媒体に形成された前記測定用ラインパターンを画像読取装置によって読み取るに際し、当該測定用ラインパターン上の前記ラインの長手方向を前記画像読取装置の副走査方向に向けて読み取りを行い、前記測定用ラインパターンの読取画像を表す電子画像データを取得する読取工程と、 前記読取工程で取得した読取画像から前記複数のラインブロック及び前記基準ラインブロックの各ラインブロック内のライン位置を特定するラインブロック内位置特定工程と、 前記ラインブロック内位置特定工程で求めた前記複数のラインブロックについてのライン位置を、前記基準ラインブロックに基づいて補正する位置補正工程と、 を備えることを特徴とするドット位置測定方法。
IPC (3件):
H04N 1/00 ,  B41J 2/01 ,  B41J 29/46
FI (3件):
H04N1/00 106C ,  B41J3/04 101Z ,  B41J29/46 C
Fターム (20件):
2C056EB27 ,  2C056EB42 ,  2C056KD06 ,  2C061AQ05 ,  2C061AR01 ,  2C061AS06 ,  2C061KK13 ,  2C061KK18 ,  2C061KK26 ,  2C061KK28 ,  5C062AA05 ,  5C062AB02 ,  5C062AB08 ,  5C062AB17 ,  5C062AB22 ,  5C062AB33 ,  5C062AC02 ,  5C062AC03 ,  5C062AC55 ,  5C062AC58
引用特許:
出願人引用 (2件)

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