特許

J-GLOBAL ID：201003037551928877

ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法

発明者： 帰山 芳行
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (3件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-147665
公開番号（公開出願番号）：特開2010-067950
出願日： 2009年06月22日
公開日（公表日）： 2010年03月25日
要約：

【課題】圧力の変動を抑制できるステージ装置を提供する。【解決手段】ステージ装置は、所定空間内の所定面上で移動可能な第1可動部材と、所定面上で、第1可動部材と離れた状態で移動して、所定空間内の少なくとも一部の圧力を調整する第2可動部材とを備えている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

所定空間内の所定面上で移動可能な第1可動部材と、 前記所定面上で、前記第1可動部材と離れた状態で移動して、前記所定空間内の少なくとも一部の圧力を調整する第2可動部材と、を備えるステージ装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/68

FI (4件)：

H01L21/30 515G ,  H01L21/30 516B ,  H01L21/68 K ,  H01L21/68 F

Fターム (14件)：

5F031GA64 ,  5F031HA53 ,  5F031HA57 ,  5F031JA02 ,  5F031JA10 ,  5F031JA22 ,  5F031JA38 ,  5F031JA47 ,  5F031JA51 ,  5F031MA27 ,  5F046CC01 ,  5F046CC13 ,  5F046CC20 ,  5F046DA27