特許
J-GLOBAL ID：201003037786581041
微小構造を製造するための方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
斉藤 達也
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-512349
公開番号（公開出願番号）：特表2010-504421
出願日： 2007年09月21日
公開日（公表日）： 2010年02月12日
要約：
本発明は、微小構造を製造するための方法であって、基板の表面上にマスクを配置する工程;ならびに前記マスクおよび前記基板の陰になった表面領域上および陰になっていない表面領域上の両方に層を形成するために当該圧力で実施される当該蒸着条件下で原料物質を蒸着させる工程を含む方法に関する。
請求項（抜粋）：
微小構造を製造するための方法であって、
基板の表面上にマスクを溶着させる工程;および
前記マスクおよび前記基板の陰になった表面領域上および陰になっていない表面領域上の両方に層を形成するために当該圧力で実施される当該蒸着条件下で原料物質を蒸着させる工程を含む方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C14/04 A
, C23C14/24 R
4K029AA06
, 4K029AA24
, 4K029BA04
, 4K029BA07
, 4K029BB02
, 4K029BB03
, 4K029CA01
, 4K029DA02
, 4K029EA03
, 4K029EA05
, 4K029FA01
, 4K029HA02
