特許

J-GLOBAL ID：201003038132968776

光ナノインプリントリソグラフィ用感光性樹脂組成物樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、微細構造体及び光硬化物の除去方法

発明者： 太田 絵美子 ,  鍛治 誠 ,  姜 学松
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-052694
公開番号（公開出願番号）：特開2010-206115
出願日： 2009年03月05日
公開日（公表日）： 2010年09月16日
要約：

【課題】 光硬化物の除去性に優れた光ナノインプリントリソグラフィ用感光性樹脂組成物、レジストパターンの形成方法、微細構造体及び光硬化物の除去方法を提供する。【解決手段】(A)光重合性化合物及び(B)光重合開始剤を含有する光ナノインプリントリソグラフィ用感光性樹脂組成物であって、前記(B)光重合開始剤が、第一の活性光線を照射した時に活性種を生じる化合物を含有し、前記(A)光重合性化合物が、2以上の重合性基と、第一の活性光線よりも波長の短い第二の活性光線を照射したときに切断される結合を含む特性基と、を分子内に有する化合物を含有する、感光性樹脂組成物。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

(A)2以上の重合性基と、第一の活性光線よりも波長の短い第二の活性光線を照射し たときに切断される結合を含む特性基と、を分子内に有する光重合性化合物、及び (B)第一の活性光線を照射した時に活性種を生じる光重合開始剤 を含有する、光ナノインプリントリソグラフィ用感光性樹脂組成物。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  C08F 20/10 ,  C08F 16/32 ,  C08G 65/332 ,  C08F 290/06 ,  B29C 59/02

FI (6件)：

H01L21/30 502D ,  C08F20/10 ,  C08F16/32 ,  C08G65/332 ,  C08F290/06 ,  B29C59/02 Z

Fターム (75件)：

4F209AA21 ,  4F209AA36 ,  4F209AA39 ,  4F209AA43 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  4J005AA12 ,  4J005BD02 ,  4J005BD03 ,  4J100AE05Q ,  4J100AE76P ,  4J100AE76R ,  4J100AL05Q ,  4J100AL08Q ,  4J100AL66P ,  4J100AL66R ,  4J100BA02P ,  4J100BA03R ,  4J100BA08P ,  4J100BA08R ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BA16P ,  4J100BA38P ,  4J100BC02P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC48P ,  4J100BC58P ,  4J100BC66P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA09 ,  4J100DA61 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38 ,  4J127AA03 ,  4J127AA04 ,  4J127AA06 ,  4J127BB031 ,  4J127BB111 ,  4J127BB221 ,  4J127BC021 ,  4J127BC151 ,  4J127BD221 ,  4J127BG05Y ,  4J127BG051 ,  4J127BG14Y ,  4J127BG141 ,  4J127BG16Y ,  4J127BG161 ,  4J127BG19Y ,  4J127BG191 ,  4J127BG31Y ,  4J127BG311 ,  4J127CB151 ,  4J127CB221 ,  4J127CB282 ,  4J127CC011 ,  4J127CC021 ,  4J127CC031 ,  4J127CC111 ,  4J127CC131 ,  4J127FA17 ,  5F046AA28