特許
J-GLOBAL ID：201003038342040636
アモルファス皮膜の形成装置および形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
細見 吉生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-184230
公開番号（公開出願番号）：特開2010-022895
出願日： 2008年07月15日
公開日（公表日）： 2010年02月04日
要約：
【課題】 高融点で過冷却温度領域がせまい金属を含む多種類の金属についてアモルファス皮膜の形成ができることに加え、設備的にコンパクトで酸化物の生成が少ないといった利点を有する、アモルファス皮膜の形成装置および形成方法を提供する。【解決手段】 アモルファス皮膜形成装置1は、材料粒子を含む火炎Fを母材Mに向けて溶射ガン10より噴射させ、当該材料粒子を火炎Fによって溶融させたうえ、材料粒子および火炎Fを母材Mに達する前から冷却ガスGにて冷却する。装置1において、溶射ガン10による火炎Fの噴射経路のうち材料粒子を溶融させる領域に、火炎Fと外気とを隔てる筒状体20を設け、その筒状体20と一体的に上記冷却ガスの流路を形成した。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
材料粒子を含む火炎を母材に向けて溶射ガンより噴射し、当該材料粒子を火炎によって溶融させたうえ、当該材料粒子および火炎を母材に達する前から冷却ガスにて冷却するアモルファス皮膜の形成装置であって、
溶射ガンによる火炎の噴射経路のうち材料粒子を溶融させる領域に火炎と外気とを隔てる筒状体を有し、その筒状体に沿って筒状体と一体的に上記冷却ガスの流路が形成されていることを特徴とするアモルファス皮膜の形成装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (25件)：
4F033AA14
, 4F033BA01
, 4F033BA02
, 4F033BA05
, 4F033DA01
, 4F033EA01
, 4F033HA01
, 4F033HA05
, 4F033PA14
, 4F033QA01
, 4F033QB02Y
, 4F033QB05
, 4F033QB12Y
, 4F033QB19
, 4F033QD13
, 4F033QG11
, 4F033QG13
, 4F033QG47
, 4K031CB22
, 4K031CB25
, 4K031CB28
, 4K031DA01
, 4K031EA01
, 4K031EA10
, 4K031EA11
出願人引用 (3件)
審査官引用 (10件)
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