特許
J-GLOBAL ID:201003038641168274

光ナノインプリント用硬化性組成物、硬化物およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-284518
公開番号(公開出願番号):特開2010-114209
出願日: 2008年11月05日
公開日(公表日): 2010年05月20日
要約:
【課題】パターン精度および基板密着性に優れ、かつ、耐熱性に優れたナノインプリント用組成物を提供する。【解決手段】(A)重合性単量体および(B)光重合開始剤を含む硬化性組成物であって、該硬化性組成物を平均厚さが0.5μm以上30μm未満の範囲のいずれかとなる硬化膜としたとき、波長365nmの光線の透過率が80%以下となる、光ナノインプリント用硬化性組成物を提供する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(A)重合性単量体および(B)光重合開始剤を含む硬化性組成物であって、該硬化性組成物を平均厚さが0.5μm以上30μm未満の範囲のいずれかとなる硬化膜としたとき、波長365nmの光線の透過率が80%以下となる、光ナノインプリント用硬化性組成物。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  B29C 59/02 ,  C08F 2/50
FI (4件):
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z ,  C08F2/50 ,  H01L21/30 502R
Fターム (60件):
4F209AA43 ,  4F209AB04 ,  4F209AB06 ,  4F209AB10 ,  4F209AC03 ,  4F209AC05 ,  4F209AD08 ,  4F209AE10 ,  4F209AF01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AK03 ,  4F209AP16 ,  4F209AP20 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PH27 ,  4F209PN03 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  4F209PQ20 ,  4J011AA05 ,  4J011AC04 ,  4J011QA01 ,  4J011QA03 ,  4J011QA07 ,  4J011QA08 ,  4J011QA11 ,  4J011QA13 ,  4J011QA17 ,  4J011QA18 ,  4J011QA19 ,  4J011QA20 ,  4J011QA21 ,  4J011QA22 ,  4J011QA23 ,  4J011QA24 ,  4J011QA25 ,  4J011QA26 ,  4J011QA34 ,  4J011QA43 ,  4J011QA45 ,  4J011QA46 ,  4J011SA21 ,  4J011SA61 ,  4J011SA62 ,  4J011SA64 ,  4J011SA75 ,  4J011SA78 ,  4J011SA84 ,  4J011TA02 ,  4J011TA08 ,  4J011TA10 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J011WA07 ,  4J011XA02 ,  5F046AA28
引用特許:
出願人引用 (5件)
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