特許

J-GLOBAL ID：201003039358563864

光学素子、露光装置及びデバイス製造方法

発明者： 小宮 毅治
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (3件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-122964
公開番号（公開出願番号）：特開2010-272677
出願日： 2009年05月21日
公開日（公表日）： 2010年12月02日
要約：

【課題】炭酸ガスレーザーを励起光とする光源の非露光光スペクトルを効果的に抑制し、各光学素子やウエハ、ステージ等の結像性能を良好に維持できる光学素子、露光装置、及びこれらを用いたデバイスの製造方法を提供する。【解決手段】炭酸ガスレーザーを励起光とする露光光を反射するとともに前記励起光を透過する露光光反射層(103)と、前記励起光の反射を防止する励起光反射防止層(104)とが、前記露光光の光路に光源側からこの順に積層されていることを特徴とする。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

炭酸ガスレーザーを励起光とする露光光を反射するとともに前記励起光を透過する露光光反射層と、前記励起光の反射を防止する励起光反射防止層とが、前記露光光の光路に光源側からこの順に積層されていること を特徴とする光学素子。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G02B 5/08

FI (3件)：

H01L21/30 531A ,  H01L21/30 531S ,  G02B5/08 A

Fターム (10件)：

2H042DA08 ,  2H042DA12 ,  2H042DA22 ,  2H042DB01 ,  2H042DB02 ,  2H042DC02 ,  2H042DE04 ,  5F046GB01 ,  5F046GB09 ,  5F046GC03