特許
J-GLOBAL ID:201003039539399462
シラン処理され且つ粉砕されたフュームドシリカ
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (8件):
矢野 敏雄
, 山崎 利臣
, 久野 琢也
, 杉本 博司
, 高橋 佳大
, 星 公弘
, 二宮 浩康
, アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-508776
公開番号(公開出願番号):特表2010-528132
出願日: 2008年05月06日
公開日(公表日): 2010年08月19日
要約:
本発明は、シラン処理の結果として表面上に固定されたトリメチルシリル基を有するフュームドシリカを粉砕することによって得られる疎水性のフュームドシリカ、およびこのシリカを含む被覆配合物に関する。
請求項(抜粋):
シラン処理の結果として表面上に固定されたトリメチルシリル基を有するフュームドシリカを粉砕することによって得られる疎水性のフュームドシリカ。
IPC (7件):
C09C 3/12
, C09D 201/00
, C09D 7/12
, C09K 3/00
, C01B 33/18
, C09C 3/04
, C09C 1/28
FI (8件):
C09C3/12
, C09D201/00
, C09D7/12
, C09K3/00 103F
, C09K3/00 103N
, C01B33/18 C
, C09C3/04
, C09C1/28
Fターム (33件):
4G072AA25
, 4G072CC16
, 4G072DD07
, 4G072GG01
, 4G072GG02
, 4G072GG03
, 4G072HH07
, 4G072HH08
, 4G072HH16
, 4G072HH28
, 4G072MM26
, 4G072QQ07
, 4G072RR05
, 4G072TT01
, 4G072TT04
, 4G072TT06
, 4G072UU09
, 4G072UU30
, 4J037AA18
, 4J037CB23
, 4J037DD05
, 4J037DD07
, 4J037DD27
, 4J037EE02
, 4J037EE16
, 4J037EE29
, 4J038CG041
, 4J038DD091
, 4J038EA011
, 4J038HA446
, 4J038KA08
, 4J038KA14
, 4J038PC02
引用特許:
審査官引用 (7件)
-
シラン処理されたシリカ
公報種別:公表公報
出願番号:特願2007-501142
出願人:デグサゲーエムベーハー
-
特開昭58-070848
-
樹脂充填材用二酸化珪素微粉末
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-160358
出願人:日本アエロジル株式会社
全件表示
前のページに戻る