特許
J-GLOBAL ID:201003039696552274

反応装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 木戸 一彦 ,  木戸 良彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-287300
公開番号(公開出願番号):特開2010-112907
出願日: 2008年11月10日
公開日(公表日): 2010年05月20日
要約:
【課題】簡単な構造でシール性の向上と収率の向上を図ることができると共に、カラムやエンドフィッティングの交換作業や配管作業を簡便に行うことのできる水素化反応に適した反応装置提供する。【解決手段】反応装置は、水素触媒を充填した金属製のカラム11の入口から原液L1と水素ガスHとを導入し、これらをカラム11内の水素触媒の作用で水素化反応させ反応液L2をカラム11の出口から導出するもので、カラム11の入口側には、フィルタ12と整流板21とを介して入口側エンドフィッティング31を、カラム11の出口側には、フィルタ13を介して出口側エンドフィッティング41をそれぞれ装着する。入口側エンドフィッティング31には入口側ダブルフェラル部材51を介して入口側ヘッド61を、出口側エンドフィッティング41には出口側ダブルフェラル部材71を介して出口側ヘッド81を着脱可能にそれぞれ連結する。【選択図】図5
請求項(抜粋):
金属製カラムの端部に金属製エンドフィッティングを装着するとともに、該エンドフィッティングを金属製ダブルフェラル部材を介して金属製ヘッドに着脱可能に連結することにより、前記金属製ヘッドから前記ダブルフェラル部材及び前記エンドフィッティングを介して前記カラム内に連通する流体流路が形成される反応装置において、前記エンドフィッティングは、前記ヘッド側に開口する小径孔部と、該小径孔部の底部に形成され、カラム側に向けて漸次縮径する円錐孔部とを有し、前記ヘッドは、前記エンドフィッティング側に開口する小径孔部と、該小径孔部の底部に形成され、カラム側に向けて漸次拡開する円錐孔部とを有し、前記ダブルフェラル部材は、前記エンドフィッティングの小径孔部及び前記ヘッドの小径孔部に挿入可能な円筒部と、該円筒部の両端からそれぞれ突出して各円錐孔部にそれぞれ進入する一対のフェラル部とを有し、該ダブルフェラル部材を介してエンドフィッティングとヘッドとを連結したときに、各フェラル部の外周面と各円錐孔部の内周面とが圧接してメタルシールされることを特徴とする反応装置。
IPC (1件):
G01N 30/60
FI (1件):
G01N30/60 B
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (2件)

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