化粧シート及びこれを用いた化粧板

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：大谷保 , 東平正道 , 塚脇正博 , 片岡誠 , 平澤賢一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-075625
公開番号（公開出願番号）：特開2010-228140
出願日： 2009年03月26日
公開日（公表日）： 2010年10月14日
要約：

【課題】白濁による絵柄の鮮明性の低下が改善された、優れた意匠感と、優れた耐汚染性とを有する化粧シート、及びこれを用いた化粧板を提供すること。【解決手段】基材上に少なくとも、部分的に設けられた低艶絵柄インキ層と、該低艶絵柄インキ層上に存在してこれと接触すると共に、該低艶絵柄インキ層が形成された領域及び該低艶絵柄インキ層が形成されてない領域とを含む全面にわたって被覆する表面保護層を有する化粧シートであって、該低艶絵柄インキ層を形成する低艶絵柄インキが吸油量(JIS K 5101-13-1:2004に準拠する)が150ml/100g以下であるシリカ微粒子を含有し、該表面保護層は電離放射線硬化性樹脂組成物が架橋硬化してなり、該表面保護層中には、該低艶絵柄インキ層の直上部及びその近傍に視覚的に凹部として認識される凹部領域が形成される化粧シートである。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材上に少なくとも、部分的に設けられた低艶絵柄インキ層と、該低艶絵柄インキ層上に存在してこれと接触すると共に、該低艶絵柄インキ層が形成された領域及び該低艶絵柄インキ層が形成されてない領域とを含む全面にわたって被覆する表面保護層を有する化粧シートであって、該低艶絵柄インキ層を形成する低艶絵柄インキが吸油量(JIS K 5101-13-1:2004に準拠する)が150ml/100g以下であるシリカ微粒子を含有し、該表面保護層は電離放射線硬化性樹脂組成物が架橋硬化してなり、該表面保護層中には、該低艶絵柄インキ層の直上部及びその近傍に視覚的に凹部として認識される凹部領域が形成される化粧シート。

IPC (2件)：

B32B 33/00 , B05D 7/04

FI (2件)：

B32B33/00 , B05D7/04

Fターム (23件)：

4D075AE03 , 4D075CB36 , 4D075DB31 , 4D075DC31 , 4F100AA20B , 4F100AA20H , 4F100AK01B , 4F100AK01C , 4F100AK25 , 4F100AT00A , 4F100BA03 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10C , 4F100DD05C , 4F100DE01B , 4F100DE01H , 4F100DG10 , 4F100GB08 , 4F100HB31B , 4F100JB14C , 4F100JN21B , 4F100YY00B

引用特許：

出願人引用 (7件)

化粧材
公報種別：再公表公報出願番号：JP2005017969 出願人：大日本印刷株式会社
化粧材
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-287892 出願人：大日本印刷株式会社
化粧材
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-287891 出願人：大日本印刷株式会社

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