ZSM-5型ゼオライト膜の製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (7件)：小川信一 , 野口賢照 , 佐藤謙二 , 昼間孝良 , 平井功 , 境澤正夫 , 斎下和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-049810
公開番号（公開出願番号）：特開2010-131600
出願日： 2010年03月05日
公開日（公表日）： 2010年06月17日
要約：

【課題】 ZSM-5型ゼオライトが有する高い耐酸性を保持しながら、親水性および水選択透過性を有し、高品質なZSM-5型ゼオライト膜を、構造規定剤を使用することなく、焼成処理を行わずに製造する方法を提供する。【解決手段】アルミナ源、シリカ源、およびフッ素化合物を含み、該フッ素化合物以外に構造規定剤を含まない水性ゲルを熟成させた後、種結晶を有する支持体を前記水性ゲルに挿入し水熱合成するZSM-5型ゼオライト膜の製造方法であって、前記水性ゲルの仕込み組成が、Si/Alモル比が5以上30以下、F/Siモル比が0.5以上2.0以下であり、この水性ゲルを室温〜50°C、0.5〜24時間の条件で熟成することを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

アルミナ源、シリカ源、およびフッ素化合物を含み、該フッ素化合物以外に構造規定剤を含まない水性ゲルを熟成させた後、種結晶を有する支持体を前記水性ゲルに挿入し水熱合成するZSM-5型ゼオライト膜の製造方法であって、前記水性ゲルの仕込み組成が、Si/Alモル比が5以上30以下、F/Siモル比が0.5以上2.0以下であり、この水性ゲルを室温〜50°C、0.5〜24時間の条件で熟成することを特徴とするZSM-5型ゼオライト膜の製造方法。

IPC (3件)：

B01D 71/02 , B01D 69/12 , C01B 39/38

FI (3件)：

B01D71/02 , B01D69/12 , C01B39/38

Fターム (50件)：

4D006GA25 , 4D006GA28 , 4D006GA41 , 4D006KA12 , 4D006MA02 , 4D006MA03 , 4D006MA09 , 4D006MA22 , 4D006MA24 , 4D006MB02 , 4D006MB09 , 4D006MB11 , 4D006MB12 , 4D006MB13 , 4D006MB15 , 4D006MC02 , 4D006MC03X , 4D006MC04 , 4D006MC05 , 4D006NA39 , 4D006NA45 , 4D006NA51 , 4D006PA01 , 4D006PB14 , 4D006PB25 , 4D006PB32 , 4D006PB65 , 4D006PB70 , 4G073BA04 , 4G073BA69 , 4G073BA76 , 4G073BA80 , 4G073BA81 , 4G073BD18 , 4G073CZ27 , 4G073FA04 , 4G073FC12 , 4G073FC25 , 4G073FC27 , 4G073FC30 , 4G073FD02 , 4G073FD24 , 4G073GA03 , 4G073GA13 , 4G073GA15 , 4G073GA40 , 4G073GB02 , 4G073UA06 , 4G073UB26 , 4G073UB40

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