特許
J-GLOBAL ID:201003044354248410
過酸化水素分解処理水の製造方法、過酸化水素分解処理水の製造装置、処理槽、超純水の製造方法、超純水の製造装置、水素溶解水の製造方法、水素溶解水の製造装置、オゾン溶解水の製造方法、オゾン溶解水の製造装置および電子部品の洗浄方法
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
赤塚 賢次
, 福田 保夫
, 阪田 泰之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-057392
公開番号(公開出願番号):特開2010-240641
出願日: 2010年03月15日
公開日(公表日): 2010年10月28日
要約:
【課題】 通水速度(SV)が2000h-1を超えるような大きなSVで通水したり、触媒の充填層高を薄くしても、大型の触媒塔を必要とすることなく、過酸化水素を高効率に分解除去して過酸化水素分解処理水を製造する方法を提供することを目的とする。【解決手段】モノリス状有機多孔質アニオン交換体に白金族金属が担持されてなる白金族金属担持触媒と、過酸化水素含有水とを接触させることを特徴とする過酸化水素分解処理水の製造方法である。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
モノリス状有機多孔質アニオン交換体に白金族金属が担持されてなる白金族金属担持触媒と、過酸化水素含有水とを接触させることを特徴とする過酸化水素分解処理水の製造方法。
IPC (9件):
C02F 1/58
, C02F 1/44
, C02F 1/72
, C02F 1/32
, B01F 1/00
, C02F 9/00
, C02F 1/50
, C02F 1/42
, B01J 31/28
FI (20件):
C02F1/58 H
, C02F1/44 J
, C02F1/72 101
, C02F1/32
, B01F1/00 A
, C02F9/00 502E
, C02F9/00 502J
, C02F9/00 502N
, C02F9/00 502R
, C02F9/00 503B
, C02F9/00 503G
, C02F1/50 531R
, C02F1/50 531J
, C02F1/50 540B
, C02F1/50 550D
, C02F1/50 560C
, C02F1/50 560E
, C02F1/50 560Z
, C02F1/42 A
, B01J31/28 M
Fターム (73件):
4D006GA06
, 4D006GA07
, 4D006HA01
, 4D006HA21
, 4D006HA41
, 4D006HA61
, 4D006KA01
, 4D006KA52
, 4D006KA55
, 4D006KA57
, 4D006KA72
, 4D006KB04
, 4D006KB11
, 4D006KB17
, 4D006KB30
, 4D006MA22
, 4D006MC18
, 4D006MC62
, 4D006PA01
, 4D006PB08
, 4D006PC02
, 4D025AA04
, 4D025AA09
, 4D025AB05
, 4D025BA16
, 4D025BA24
, 4D025CA06
, 4D025DA01
, 4D025DA04
, 4D025DA08
, 4D025DA10
, 4D037AA03
, 4D037AA14
, 4D037AB02
, 4D037BA18
, 4D037CA03
, 4D037CA11
, 4D037CA15
, 4D037CA16
, 4D038AA08
, 4D038AB26
, 4D038BB03
, 4D038BB07
, 4D038BB08
, 4D038BB12
, 4D038BB16
, 4D038BB20
, 4D050AA13
, 4D050AB33
, 4D050BC06
, 4D050BC09
, 4D050CA03
, 4D050CA08
, 4D050CA09
, 4D050CA12
, 4G035AA01
, 4G169AA01
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA22A
, 4G169BA22B
, 4G169BA36A
, 4G169BC69A
, 4G169BC69B
, 4G169BC72B
, 4G169CA05
, 4G169CA10
, 4G169CA11
, 4G169EA02Y
, 4G169FA01
, 4G169FA02
, 4G169FB14
, 4G169FC08
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
飲料の安定化方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-119188
出願人:ファルマシア・バイオテック・アクチボラグ, インテルマーク・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング
-
沸騰水型原子力発電プラントの水処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-358729
出願人:東京電力株式会社
前のページに戻る