特許
J-GLOBAL ID:201003046436110886
アクティブ・マトリックス・ディスプレイ及びプラスチックの基体を有する他の電子デバイス
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
伊東 忠彦
, 大貫 進介
, 伊東 忠重
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-523423
公開番号(公開出願番号):特表2010-500609
出願日: 2007年08月07日
公開日(公表日): 2010年01月07日
要約:
薄いフィルムの電子デバイスを製造する方法は、湿式の鋳造工程を使用することで剛性のキャリア基体へプラスチックのコーティングを設けること、プラスチックのコーティングが、プラスチックの基体を形成すること並びに透明なプラスチックの材料及びUVを吸収する添加物を具備することを具備する。薄いフィルムの電子デバイスは、プラスチックの基体に形成されると共に、剛性のキャリア基体は、プラスチックの基体から剥離される。この発明は、UV吸収体での基体のプラスチックの材料のドーピングを通じた、レーザー剥離工程に適切な透明な基体の材料を作る方法を提供する。このUV吸収体は、非常に高い吸収でリフトオフレーザーの波長(例のために、308-351nm、又は355nm)において吸収する。
請求項(抜粋):
薄膜電子デバイスを製造する方法であって、
前記方法は、
- 湿式の鋳造工程を使用することで剛性のキャリア基体へプラスチックのコーティングを設けること、前記プラスチックのコーティングが、プラスチックの基体を形成すると共に透明なプラスチックの材料及びUVを吸収する添加物を具備すること;
- 前記プラスチックの基体に薄膜電子素子を形成すること;並びに
- 前記プラスチックの基体から前記剛性のキャリア基体を剥離すること
:を具備する、方法。
IPC (4件):
G09F 9/00
, G09F 9/30
, G02F 1/133
, G02F 1/136
FI (4件):
G09F9/00 338
, G09F9/30 310
, G02F1/1333 500
, G02F1/1368
Fターム (23件):
2H090JB03
, 2H090JB06
, 2H090JD03
, 2H090LA04
, 2H092JA24
, 2H092KA04
, 2H092KA05
, 2H092KA12
, 2H092NA25
, 2H092PA01
, 2H092PA06
, 5C094AA15
, 5C094AA36
, 5C094AA42
, 5C094AA43
, 5C094EB01
, 5C094EB10
, 5C094GB10
, 5G435AA14
, 5G435AA17
, 5G435KK05
, 5G435KK07
, 5G435KK10
引用特許:
前のページに戻る