特許
J-GLOBAL ID：201003047133717776
溶存酸素除去水の製造方法、溶存酸素除去水の製造装置、溶存酸素処理槽、超純水の製造方法、水素溶解水の製造方法、水素溶解水の製造装置および電子部品の洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
赤塚 賢次
, 福田 保夫
, 阪田 泰之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-057396
公開番号（公開出願番号）：特開2010-240642
出願日： 2010年03月15日
公開日（公表日）： 2010年10月28日
要約：
【課題】通水速度(SV)が2000h-1を超えるような大きなSVで通水したり、触媒の充填層高を薄くしても、大型の触媒塔を必要とすることなく、被処理水中の溶存酸素を高効率に除去して溶存酸素除去水を製造する方法を提供することを目的とする。【解決手段】酸素溶存水に、水素を溶解させた後、モノリス状有機多孔質アニオン交換体に白金族金属が担持されてなる白金族金属担持触媒と接触させることを特徴とする溶存酸素除去水の製造方法である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
酸素溶存水に、水素を溶解させた後、モノリス状有機多孔質アニオン交換体に白金族金属が担持されてなる白金族金属担持触媒と接触させることを特徴とする溶存酸素除去水の製造方法。
IPC (6件)：
C02F 1/70
, C02F 1/42
, C02F 1/32
, C02F 1/44
, B01J 41/04
, C02F 9/00
C02F1/70 Z
, C02F1/42 B
, C02F1/32
, C02F1/44 J
, B01J41/04 G
, C02F9/00 502G
, C02F9/00 502J
, C02F9/00 502N
, C02F9/00 502R
, C02F9/00 503B
, C02F9/00 504B
, C02F9/00 504D
, C02F9/00 504C
4D006GA06
, 4D006GA07
, 4D006GA32
, 4D006GA35
, 4D006HA01
, 4D006HA21
, 4D006HA41
, 4D006HA61
, 4D006KA01
, 4D006KB11
, 4D006KB17
, 4D006KB30
, 4D006MB05
, 4D006MC18
, 4D006MC30
, 4D006MC62
, 4D006MC65
, 4D006PA01
, 4D006PB02
, 4D006PB22
, 4D006PC02
, 4D025AA04
, 4D025BA09
, 4D025BA14
, 4D025BA16
, 4D025BB01
, 4D025BB02
, 4D025BB04
, 4D025DA01
, 4D025DA04
, 4D025DA05
, 4D025DA10
, 4D037AA03
, 4D037AB01
, 4D037AB02
, 4D037BA18
, 4D037CA03
, 4D037CA09
, 4D037CA15
, 4D050AA01
, 4D050AB32
, 4D050BA14
, 4D050BC06
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (24件)
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