特許
J-GLOBAL ID:201003048387937853

汚泥の脱水乾燥装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  弟子丸 健 ,  井野 砂里
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-027465
公開番号(公開出願番号):特開2010-137223
出願日: 2010年02月10日
公開日(公表日): 2010年06月24日
要約:
【課題】低コストで実用上必要な耐用回数を得ることができる膜及び/濾布の固定構造を備えた汚泥の脱水乾燥装置を提供する。【解決手段】本発明は、汚泥に加温流体を供給して脱水乾燥し含水率の低い乾燥ケーキを形成する汚泥の脱水乾燥装置1であって、少なくとも1対の濾板4であって、この濾板が、芯板26と、この芯板の両面に設けられ濾室32を形成する濾布34と、少なくとも一方の面の濾布の背面側に設けられ加温流体用の流体室を形成する膜38とを有する濾板と、膜及び/又は濾布のぞれぞれの端部を芯板の外周部のほぼ全周に沿って固定する固定手段72,104と、を有する。【選択図】図19
請求項(抜粋):
汚泥に加温流体を供給して脱水乾燥し含水率の低い乾燥ケーキを形成する汚泥の脱水乾燥装置であって、 少なくとも1対の濾板であって、この濾板が、芯板と、この芯板の両面に設けられ濾室を形成する濾布と、少なくとも一方の面の濾布の背面側に設けられ加温流体用の流体室を形成する膜とを有する上記濾板と、 上記膜及び/又は濾布のぞれぞれの端部を上記芯板の外周部のほぼ全周に沿って固定する固定手段と、 を有することを特徴とする汚泥の脱水乾燥装置。
IPC (2件):
C02F 11/12 ,  B01D 25/12
FI (5件):
C02F11/12 D ,  C02F11/12 B ,  B01D25/12 J ,  B01D25/12 101Z ,  B01D25/12 P
Fターム (14件):
4D018AA02 ,  4D018AA06 ,  4D018AA12 ,  4D018BB00 ,  4D018BB03 ,  4D018BB08 ,  4D018BB15 ,  4D018BB21 ,  4D018BB28 ,  4D059AA03 ,  4D059BD11 ,  4D059BD19 ,  4D059BE16 ,  4D059BE51
引用特許:
審査官引用 (3件)

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