特許

J-GLOBAL ID：201003048692194607

真空予圧空気軸受チャックを使用する基板の安定

発明者： チャオ・グオヘン ,  ベルヤエブ・アレクサンダー ,  ウォルターズ・クリスチャン・エイチ. ,  ドイル・ポール・アンドリュー ,  ダンドー・ハワード・ダブリュ. ,  バエズ-イラバニ・メヘディ
出願人/特許権者： ケーエルエー-テンカー・コーポレーション
代理人 (1件)： 特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-554719
公開番号（公開出願番号）：特表2010-522431
出願日： 2008年03月19日
公開日（公表日）： 2010年07月01日
要約：

【解決手段】 基板処理方法および装置が開示される。該装置は、表面にガス流を供給するように構成される、一つあるいはそれ以上のガス流開口を備えた表面を有するチャックを含む。前記表面は、表面に亘って分散された一つあるいはそれ以上の真空チャンネルを含む。真空チャンネルは、それを通って真空を引くことを可能にする。本方法では、基板は、基板の裏面でチャック表面の近傍に、チャック表面に充分に接近して支持されるので、ガス流と真空が基板の裏面とチャック表面とを隔置された関係に維持することができる。ガス流は、ガス流開口を通して供給され、真空は、一つあるいはそれ以上の真空チャンネルを通して引かれる。基板は、基板表面に実質的に垂直な方向に沿って移動される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板処理方法であって、 基板をチャック表面の近傍に支持する工程であって、基板の裏面は、チャック表面に十分に接近しているので、ガス流と真空が基板の裏面とチャック表面を隔置された関係に維持することができる前記工程と; チャック表面の一つあるいはそれ以上の開口を通してチャック表面にガス流を供給する工程と; チャック表面に亘って分散された一つあるいはそれ以上のチャンネルを通して真空を引く工程と; 基板を基板表面に実質的に垂直な方向に沿って移動させる工程と を含む方法。

IPC (3件)：

H01L 21/683 ,  H01L 21/66 ,  F16C 32/06

FI (3件)：

H01L21/68 N ,  H01L21/66 D ,  F16C32/06 B

Fターム (36件)：

3J102AA02 ,  3J102BA18 ,  3J102CA15 ,  3J102EA02 ,  3J102EA12 ,  3J102EA17 ,  3J102EA18 ,  3J102EA30 ,  3J102FA08 ,  3J102FA09 ,  3J102GA03 ,  4M106AA01 ,  4M106DJ02 ,  4M106DJ32 ,  5F031CA02 ,  5F031CA07 ,  5F031HA02 ,  5F031HA05 ,  5F031HA08 ,  5F031HA12 ,  5F031HA13 ,  5F031HA14 ,  5F031HA24 ,  5F031HA27 ,  5F031HA29 ,  5F031HA53 ,  5F031HA59 ,  5F031KA06 ,  5F031LA03 ,  5F031LA04 ,  5F031LA07 ,  5F031LA08 ,  5F031LA13 ,  5F031MA33 ,  5F031PA14 ,  5F031PA23

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板検査システム及び基板検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-081606   出願人：オリンパス株式会社
• 非接触熱プラットフォーム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-503493   出願人：コアフローサイエンティフィックソリューションズリミテッド