真空処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：大森純一 , 折居章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-204826
公開番号（公開出願番号）：特開2010-041888
出願日： 2008年08月07日
公開日（公表日）： 2010年02月18日
要約：

【課題】ケーブル類からのガスの発生の問題をなくし、また、可動性のケーブルダクト等の複雑な構造を採用することなく、真空室内の駆動源に電力を供給することができる真空処理装置を提供すること。【解決手段】電力供給機構2は、隔壁11の側面114に配置されている。電力供給機構2は非接触型のものであり、隔壁11の外側に配置された1次側電磁石21と、隔壁11内に配置された2次側電磁石22とを有する。電力供給機構2は、1次側電磁石21から電磁誘導により発生する磁場を用いて2次側電磁石22に電力及び通信信号を供給する。コントローラボックス9内の制御器93は、2次側電磁石22が1次側電磁石21から受けた磁場により得られる高周波電力を整流し、また、その高周波電力から通信信号を検出する。これにより、制御器93は、この電力を用いて通信信号を搬送ロボット10の駆動部へ送信することで搬送ロボット10を駆動する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

大気圧より低い第1の圧力を維持することが可能な真空室と、前記真空室内に配置された駆動源と、前記真空室外に配置され、前記駆動源に電力を供給するための1次側機構と、前記真空室内に配置され、前記1次側機構から前記電力を非接触で受ける2次側機構とを有する電力供給機構と、前記第1の圧力より高い第2の圧力で気密に前記2次側機構を収容することが可能な容器とを具備する真空処理装置。

IPC (6件)：

H02K 41/02 , B65G 49/00 , B65G 49/06 , B65G 49/07 , H01L 21/677 , H02K 41/03

FI (6件)：

H02K41/02 B , B65G49/00 A , B65G49/06 Z , B65G49/07 D , H01L21/68 A , H02K41/03 B

Fターム (31件)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031GA02 , 5F031GA36 , 5F031GA37 , 5F031GA48 , 5F031JA01 , 5F031JA06 , 5F031JA13 , 5F031JA22 , 5F031JA32 , 5F031JA51 , 5F031LA04 , 5F031LA06 , 5F031LA08 , 5F031MA04 , 5F031MA13 , 5F031NA05 , 5F031PA02 , 5F031PA11 , 5F031PA26 , 5H641BB06 , 5H641GG02 , 5H641GG07 , 5H641HH03 , 5H641HH07 , 5H641JA02 , 5H641JA09 , 5H641JB02

引用特許：

出願人引用 (1件)

真空容器内搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-137849 出願人：神鋼電機株式会社

審査官引用 (9件)

搬送モジュール及びクラスターシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-173318 出願人：東京エレクトロン株式会社
半導体製造装置における搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-186159 出願人：神鋼電機株式会社
真空モータ及び搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-285367 出願人：東京エレクトロン株式会社

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