特許
J-GLOBAL ID：201003050041780855
エレクトロクロミックデバイスの制御
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉村 直樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-510263
公開番号（公開出願番号）：特表2010-529488
出願日： 2008年05月28日
公開日（公表日）： 2010年08月26日
要約：
エレクトロクロミックデバイスの透過率を制御する方法が提供される。制御されるエレクトロクロミックデバイスは、第1および第2の電子伝導層と、第1の電子伝導層を覆う第1のエレクトロクロミック層と、第2の電子伝導層を覆う対向電極層と、第1のエレクトロクロミック層と対向電極層との間に積層される電解質層と、を有する。該方法は、連続した電圧パルスを第1および第2の電子伝導層の間に印加するステップ(212)と、印加される電圧パルス同士の間に、第1および第2の電子伝導層の間に開回路を提供するステップと、を含む。該方法は、開回路の期間中に第1および第2の電子伝導層の間の電圧を測定するステップ(214)と、測定電圧に依存する電圧パルスのパルスパラメータを制御するステップ(220)とによって特徴付けられ、パルスパラメータは、パルス持続時間およびパルス電圧のうちの1つである。
請求項（抜粋）：
第1の電子伝導層(12)および第2の電子伝導層(14)と、前記第1の電子伝導層(12)を少なくとも部分的に覆う第1のエレクトロクロミック層(16)と、前記第2の電子伝導層(14)を少なくとも部分的に覆う対向電極層(18)と、前記第1のエレクトロクロミック層(16)と前記対向電極層(18)との間に積層され、これらを少なくとも部分的に覆う電解質層(20)と、を有するエレクトロクロミックデバイス(10)の透過率を制御する方法であって、
前記方法は、前記第1および第2の電子伝導層の間に連続した電圧パルス(110)を印加するステップ(212)を含み、
前記印加するステップは、印加電圧期間(111)の間に、前記第1および第2の電子伝導層(12、14)の間に開回路を提供するステップをさらに含み、
さらに、
前記開回路の期間(112)中に、前記第1および第2の電子伝導層(12、14)の間の少なくとも1つの電圧値を測定するステップ(214)と、
前記測定された少なくとも1つの電圧値に依存する前記電圧パルス(110)のパルスパラメータを制御するステップ(215〜222)と、を特徴とし、
前記パルスパラメータは、電圧パルス(110)の範囲内の印加電圧の持続時間(tappl)、および印加パルス電圧(Vappl)、またはそれらから直接的に導出可能な量のうちの少なくとも1つである、
方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (23件)：
2K101AA22
, 2K101DA01
, 2K101DB03
, 2K101DB06
, 2K101DB07
, 2K101DC04
, 2K101DC13
, 2K101DC14
, 2K101DC62
, 2K101EB84
, 2K101EC73
, 2K101EC74
, 2K101ED01
, 2K101ED27
, 2K101EE02
, 2K101EG27
, 2K101EG52
, 2K101EG56
, 2K101EG62
, 2K101EG65
, 2K101EJ16
, 2K101EK04
, 2K101EK05
