特許

J-GLOBAL ID：201003050320846076

酸素還元用触媒及びその製造方法、酸素還元用電極及びその製造方法

発明者： 池田 修
出願人/特許権者： 国立大学法人金沢大学
代理人 (2件)： 木森 有平 ,  浅野 典子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-244954
公開番号（公開出願番号）：特開2010-075800
出願日： 2008年09月24日
公開日（公表日）： 2010年04月08日
要約：

【課題】 高い酸素還元能力を有し、実用性に優れた酸素還元用触媒及び酸素還元用電極を提供する。【解決手段】 アニオン基を有し中心金属がIII価の金属である水溶性ポルフィリン誘導体の熱処理物を主体とする酸素還元用触媒である。熱処理前において、カチオンによって水溶性ポルフィリン誘導体のアニオン基間及び金属間がそれぞれ結びつけられた二重の規則的構造を有する。この酸素還元用触媒は、水溶性ポルフィリン誘導体の水溶液にカチオンを加えて反応させ、得られる生成物に対して不活性ガス雰囲気中で熱処理を施すことにより製造される。また、この酸素還元用触媒は、導電性の電極素材に担持させることにより、酸素還元用電極として用いられる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

アニオン基を有し中心金属がIII価の金属である水溶性ポルフィリン誘導体の熱処理物を主体とする酸素還元用触媒であって、 熱処理前において、カチオンによって前記水溶性ポルフィリン誘導体のアニオン基間及び金属間がそれぞれ結びつけられた二重の規則的構造を有することを特徴とする酸素還元用触媒。

IPC (2件)：

B01J 31/22 ,  H01M 4/90

FI (2件)：

B01J31/22 M ,  H01M4/90 Y

Fターム (44件)：

4G169AA02 ,  4G169AA08 ,  4G169BA27A ,  4G169BA27B ,  4G169BA36C ,  4G169BB08C ,  4G169BC08C ,  4G169BC09C ,  4G169BC10C ,  4G169BC12C ,  4G169BC13C ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BE13A ,  4G169BE13B ,  4G169BE38A ,  4G169BE38B ,  4G169BE39A ,  4G169BE39B ,  4G169CB02 ,  4G169CC32 ,  4G169FA01 ,  4G169FB08 ,  4G169FB30 ,  4G169FC04 ,  5H018AA06 ,  5H018AS03 ,  5H018BB01 ,  5H018BB06 ,  5H018BB16 ,  5H018EE01 ,  5H018EE02 ,  5H018EE05 ,  5H018EE16 ,  5H026AA06 ,  5H032AA01 ,  5H032AS01 ,  5H032AS12 ,  5H032AS19 ,  5H032BB02 ,  5H032BB05 ,  5H032BB07 ,  5H032CC11 ,  5H032EE20

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開昭62-17951号公報