特許

J-GLOBAL ID：201003051147531575

二酸化チタン微粒子及びその製造方法

発明者： 飯田 正紀 ,  高御堂 玲子
出願人/特許権者： 石原産業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-166427
公開番号（公開出願番号）：特開2010-006629
出願日： 2008年06月25日
公開日（公表日）： 2010年01月14日
要約：

【課題】優れた透明性、紫外線遮蔽能を保持しながら、触媒活性を十分に抑制した二酸化チタン微粒子を提供する。また、ケーキのチキソトロピック粘性や乾燥物の粉化による取扱い作業の困難性や生産効率の低下を防ぐ製造方法を提供する。【解決手段】平均粒子径が100nm以下の二酸化チタン微粒子の表面に、高密度シリカと多孔質シリカの被覆を形成させる。具体的には、平均粒子径が100nm以下の二酸化チタン微粒子の水性スラリーを70°C以上でpH8以上に調整し、次いでケイ酸塩を添加し、しかる後酸で中和して、高密度シリカを形成させ、次いで、水性スラリーのpHを1〜4に保持しながら、ケイ酸塩と酸とを添加して、多孔質シリカを形成する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

平均粒子径が100nm以下の二酸化チタン微粒子の表面に、高密度シリカと多孔質シリカの被覆を有することを特徴とする二酸化チタン微粒子。

IPC (3件)：

C01G 23/047 ,  C09C 1/36 ,  C09C 3/06

FI (3件)：

C01G23/047 ,  C09C1/36 ,  C09C3/06

Fターム (16件)：

4G047CA02 ,  4G047CA05 ,  4G047CB05 ,  4G047CB09 ,  4G047CC03 ,  4G047CD04 ,  4J037AA22 ,  4J037CA24 ,  4J037CA25 ,  4J037DD05 ,  4J037DD06 ,  4J037EE04 ,  4J037EE43 ,  4J037EE46 ,  4J037FF02 ,  4J037FF22

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-032036   出願人：有限会社野々川商事
• 特公昭61-49250号公報
  
• 二酸化チタン顔料及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-303666   出願人：石原産業株式会社