金属性の第一の触媒および硫化された第二の触媒を用いる再生可能な源に由来する仕込原料の二工程水素化処理

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：日比紀彦 , 岸本瑛之助 , 渡邊彰 , 松村直都
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-511676
公開番号（公開出願番号）：特表2010-529981
出願日： 2008年06月03日
公開日（公表日）： 2010年09月02日
要約：

本発明は、再生可能な源からの仕込原料のための二工程水素化処理方法であって、a)第一のいわゆる穏やかな予備水素化工程であって、第VIII族からの少なくとも1種の金属および/または第VIB族からの少なくとも1種の金属を含む少なくとも1種の水素化脱水素化活性相と無定形鉱物担体とを含む金属性の第一の触媒の存在下に行われる、工程と、b)第二のいわゆる処理工程であって、第VIII族の少なくとも1種の非貴金属および/または第VIB族の少なくとも1種の金属を含む少なくとも1種の水素化脱水素化活性相と無定形鉱物担体とを含む硫化された第二の触媒の存在下に行われる、工程とを包含する方法に関する。

請求項（抜粋）：

再生可能な源に由来する仕込原料の二工程水素化処理方法であって、 a)穏やかな予備水素化工程と称される第一工程であって、第VIII族からの少なくとも1種の金属および/または第VIB族からの少なくとも1種の金属によって構成された活性な水素化脱水素化相と無定形鉱物担体とを含む金属性の第一の触媒の存在下に操作し、50〜300°Cの範囲の温度、0.1〜10MPaの範囲の水素分圧および0.1〜10h-1の範囲の触媒上毎時空間速度で操作する、工程と、 b)第二処理工程と称される第二工程であって、第VIII族からの少なくとも1種の非貴金属および/または第VIB族からの少なくとも1種の金属によって構成された活性な水素化脱水素化相と無定形鉱物担体とを含む硫化された第二の触媒の存在下に操作し、200〜450°Cの範囲の温度、1〜10MPaの範囲の圧力、0.1〜10h-1の範囲の触媒上毎時空間速度で操作し、仕込原料と混合される水素の全量は、水素対仕込原料比が仕込原料の体積(m3)当たり水素50〜1000Nm3の範囲になるようにされる、工程とを包含する、方法。

IPC (3件)：

C07C 1/22 , B01J 27/049 , C07C 9/22

FI (3件)：

C07C1/22 , B01J27/049 Z , C07C9/22

Fターム (56件)：

4G169AA03 , 4G169AA08 , 4G169BA01A , 4G169BA01B , 4G169BA02A , 4G169BA03A , 4G169BA06A , 4G169BB02A , 4G169BB02B , 4G169BB04A , 4G169BB04B , 4G169BB09A , 4G169BB09B , 4G169BC57A , 4G169BC57B , 4G169BC59A , 4G169BC59B , 4G169BC60A , 4G169BC65A , 4G169BC65B , 4G169BC67A , 4G169BC68A , 4G169BC68B , 4G169BC69A , 4G169BC72A , 4G169BC75A , 4G169CA11 , 4G169CB02 , 4G169CC02 , 4G169CC31 , 4G169DA06 , 4G169FA02 , 4G169FB14 , 4G169FB50 , 4G169FB78 , 4G169FC07 , 4G169FC08 , 4H006AA02 , 4H006AC11 , 4H006BA14 , 4H006BA20 , 4H006BA21 , 4H006BA25 , 4H006BA26 , 4H006BA55 , 4H006BA61 , 4H006BC10 , 4H006BC11 , 4H006BC18 , 4H006BC31 , 4H006BC32 , 4H006BD60 , 4H006BE20 , 4H039CA10 , 4H039CB10 , 4H039CB20

引用特許：

審査官引用 (1件)

炭化水素の製造方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2008-545029 出願人：ネステオイルオサケユキチュアユルキネン

引用文献：

審査官引用 (1件)

Catalysis Today, 1989, 5(4), pp. 533-544

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