特許
J-GLOBAL ID：201003053453927116
欠陥検査装置及び欠陥検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
保坂 丈世
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-282074
公開番号（公開出願番号）：特開2010-107466
出願日： 2008年10月31日
公開日（公表日）： 2010年05月13日
要約：
【課題】基板のパターン形成面の下地層の影響を低減した回路パターン形状の良否を判別することができる欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。【解決手段】欠陥検査装置20は、開口絞り4と対物レンズ9を介して基板10の繰り返しパターンに光源1からの光を照射する際に、開口絞り4の開口部4aが照明光学系21の光軸に直交する面内で光が繰り返しパターンからの正反射光の強度が最小となる角度で入射するように位置が変更可能な照明光学系21と、基板10の繰り返しパターンに起因して生じた複数次数の回折光による対物レンズ9の瞳面の像を検出する検出光学系22と、得られた瞳像から基板10の繰り返しパターンの欠陥を検出する検出部23を有している。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
繰り返しパターンが形成された基板の欠陥を検査する欠陥検査装置であって、
対物レンズを含み、前記対物レンズを介して前記基板に形成された繰り返しパターンに光源からの光を照射する照明光学系と、
前記繰り返しパターンに起因して生じた複数次数の回折光による、前記対物レンズの瞳面の像を検出する検出光学系と、
得られた前記瞳像から前記基板の繰り返しパターンの欠陥を検出する検出部と、
を有し、
前記照明光学系は、前記瞳面と共役な位置に配置された開口絞りと、前記開口絞りと前記対物レンズとの間に配置された偏光素子と、を含み、
前記開口絞りの開口部は、前記照明光学系の光軸に直交する面内において、前記偏光素子を経た前記光が前記繰り返しパターンに対して前記繰り返しパターンからの正反射光の強度が最小となる角度で入射するように、その位置が変更可能に構成されてなることを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N21/956 A
, H01L21/66 J
2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051BA11
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051CB06
, 4M106AA01
, 4M106BA04
, 4M106CA39
, 4M106DB02
, 4M106DB04
, 4M106DB07
, 4M106DB14
