特許
J-GLOBAL ID:201003053584490856

遷移金属錯体の製造方法と前記方法により製造された遷移金属錯体および前記遷移金属錯体を含む触媒組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-544786
公開番号(公開出願番号):特表2010-514836
出願日: 2007年12月28日
公開日(公表日): 2010年05月06日
要約:
【課題】【解決手段】本発明は、アミド基が導入されたモノシクロペンタジエニル配位子が配位された新しい遷移金属錯体とその合成方法およびそれを用いたオレフィン重合に関する。本発明に係る遷移金属錯体の製造方法は、保護基を含む化合物を用いて窒素原子の副反応を遮断するステップを含むため、より簡単で且つ高収率で遷移金属錯体を製造することができる。また、本発明に係る遷移金属錯体は、フェニレンブリッジに環状で連結されたアミド基によって金属サイトの周囲が堅固な五角形リング構造で非常に安定に維持され、それにより、構造的に単量体の接近が非常に容易である。前記遷移金属錯体を含む触媒組成物をエチレンと立体障害の大きい単量体間の共重合に適用する場合、高分子量でありながらも線形低密度であるポリオレフィンの他に、高分子量でありながらも密度が0.910g/cc未満である超低密度ポリオレフィン共重合体の製造が可能である。また、反応性も非常に高い。【選択図】なし
請求項(抜粋):
a)下記化学式1で示されるアミン系化合物とアルキルリチウムを反応させた後、保護基(-R0 )を含む化合物を添加して下記化学式2で示される化合物を製造するステップと; b)前記化学式2で示される化合物とアルキルリチウムを反応させた後、下記化学式3で示されるケトン系化合物を添加して下記化学式4で示されるアミン系化合物を製造するステップと; c)前記化学式4で示される化合物とn-ブチルリチウムを反応させて下記化学式5で示されるジリチウム化合物を製造するステップ;および d)前記化学式5で示される化合物とMCl4(M=Ti、Zr、Hf)および有機リチウム化合物を反応させて下記化学式6で示される遷移金属錯体を製造するステップ;を含む遷移金属錯体の製造方法:
IPC (5件):
C07F 7/28 ,  C07F 17/00 ,  C07F 7/00 ,  B01J 31/26 ,  C08F 4/659
FI (6件):
C07F7/28 F ,  C07F17/00 ,  C07F7/00 A ,  C07F7/00 Z ,  B01J31/26 ,  C08F4/6592
Fターム (76件):
4G169AA08 ,  4G169BA27A ,  4G169BA27B ,  4G169BC16A ,  4G169BC16B ,  4G169BC50A ,  4G169BC50B ,  4G169BC51A ,  4G169BC52A ,  4G169BD03A ,  4G169BD03B ,  4G169BE13A ,  4G169BE13B ,  4G169CB47 ,  4H049VN05 ,  4H049VN06 ,  4H049VN07 ,  4H049VQ05 ,  4H049VQ35 ,  4H049VR23 ,  4H049VR51 ,  4H049VS09 ,  4H049VU14 ,  4H049VW31 ,  4H050AA01 ,  4H050AA02 ,  4H050AA03 ,  4H050AB40 ,  4H050AC90 ,  4J128AA01 ,  4J128AB01 ,  4J128AC01 ,  4J128AC10 ,  4J128AC20 ,  4J128AC28 ,  4J128AD02 ,  4J128AD11 ,  4J128AD16 ,  4J128AD19 ,  4J128BA01A ,  4J128BA01B ,  4J128BA02A ,  4J128BB00B ,  4J128BB01A ,  4J128BC12A ,  4J128BC12B ,  4J128BC13A ,  4J128BC13B ,  4J128BC15A ,  4J128BC15B ,  4J128BC16A ,  4J128BC16B ,  4J128BC24A ,  4J128BC24B ,  4J128BC25A ,  4J128BC25B ,  4J128EA01 ,  4J128EB01 ,  4J128EB02 ,  4J128EB04 ,  4J128EB05 ,  4J128EB07 ,  4J128EB08 ,  4J128EB09 ,  4J128EB10 ,  4J128EB13 ,  4J128EB17 ,  4J128EB18 ,  4J128EB21 ,  4J128EC02 ,  4J128FA01 ,  4J128FA07 ,  4J128GA05 ,  4J128GA08 ,  4J128GA19 ,  4J128GB02
引用特許:
審査官引用 (2件)
引用文献:
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